摘要：大家好，我是财经博主老楚，专注挖掘政策红利下的超级赛道！在半导体产业国产替代加速推进的背景下，光刻机作为芯片制造的 “工业皇冠上的明珠”，其技术突破与产业化进程始终牵动市场神经。今日，即便大盘震荡调整，光刻机概念板块依旧逆势走高，成为资本市场关注的焦点。光刻机
大家好，我是财经博主老楚，专注挖掘政策红利下的超级赛道！在半导体产业国产替代加速推进的背景下，光刻机作为芯片制造的 “工业皇冠上的明珠”，其技术突破与产业化进程始终牵动市场神经。今日，即便大盘震荡调整，光刻机概念板块依旧逆势走高，成为资本市场关注的焦点。光刻机技术的突破不仅直接关系到国内半导体产业的自主可控，更能带动光学、精密制造、新材料等数十个上下游产业链的升级。据 SEMI 预测，到 2030 年全球半导体制造设备市场规模将突破 1000 亿美元，其中光刻机及配套设备占比超 30%。随着国家大基金三期持续加码、上海微电子等龙头企业技术迭代加速，国内光刻机产业链企业在核心部件、配套系统等领域不断实现突破，正从 “技术跟跑” 向 “自主创新” 跨越，迎来业绩与估值双升的关键期。
腾景科技自 2013 年成立以来，深耕高精度光学领域，凭借在光设计、精密制造上的技术积累，成为光刻机光学元件与配套光模块的核心供应商。公司研发的光刻用高平行度透镜，平行度误差控制在 0.1 弧分以内，可精准调控光刻光路的传播方向，保障曝光精度；配套的光耦合模块，能实现光源与光学系统的高效对接，光传输效率达 98% 以上，有效减少光损耗。目前，产品已进入上海微电子供应链，为 28nm DUV 光刻机提供光学配套支持，同时与国内多家光刻胶检测设备企业达成合作。随着国内半导体设备光学部件国产化率提升，腾景科技有望凭借技术优势进一步扩大市场份额。
波长光电专注于高精度光学器件研发制造二十余年，在 DUV 光刻机投影物镜领域占据龙头地位。公司自主研发的 110nm 分辨率物镜已稳定供应上海微电子产线，EUV 级物镜更已进入中试阶段，成为国内少数具备高端光刻物镜量产能力的企业。同时，其高精度光学滤光片、分光镜等产品，直接服务于光刻核心环节的准分子激光器，技术指标达到国际同类产品水平。2025 年第二季度，公司新增光刻机镜头订单同比暴涨 220%，呈现爆发式增长态势。在模拟芯片制造扩产与国产设备升级的双重驱动下，公司订单弹性十足，成长空间广阔。
蓝英装备通过收购瑞士子公司切入高端半导体设备领域，如今已成为光刻机晶圆清洗设备的国产替代唯一龙头。清洗环节是光刻工艺的前置关键步骤，直接影响光刻精度与良率，公司的清洗设备精度可达 0.1μm 以下，技术水平全球领先，不仅为 ASML 供应 EUV 清洗设备，更成为中芯国际、长江存储等国内晶圆厂的核心供应商。依托 “国内市场 + 海外技术” 的协同优势，公司半导体设备业务占比持续提升。随着国产光刻机量产带动清洗设备刚需释放，公司有望实现订单爆发式增长。
新莱应材是高端真空与气体管路系统的领军企业，成功攻克了光刻机气路污染的 “卡脖子” 问题。光刻机的真空腔体与气体传输系统对洁净度要求极高，公司的超高纯气体传输系统可实现极致洁净的介质输送，已稳定进入中芯国际、长江存储等核心客户供应链。凭借在半导体真空领域的技术积累，公司深度参与国产光刻机整机配套体系建设。社保基金的增持动作，更印证了其在国产替代进程中的长期投资价值。
赛微电子在 MEMS（微机电系统）领域深耕多年，如今在光刻机物镜技术领域实现关键突破，其 MEMS 镜片成功打入 ASML 供应链，成为国产光刻镜头的核心供应商之一。MEMS 技术在光刻机精密控制环节应用广泛，公司的高可靠性 MEMS 部件，可满足光刻过程中对微观运动的精准控制需求。随着上海微电子 28nm 光刻机国产化率提升至 90%，公司承接的配套订单规模持续扩大，同时积极布局 EUV 相关部件研发。在 MEMS 与半导体设备协同发展战略下，公司有望充分受益于技术迭代带来的价值重估。
茂莱光学是国内超精密光学元件的绝对龙头，产品全面覆盖 DUV/EUV 光学模组，可提供光刻机物镜系统所需的透镜、棱镜等核心部件，技术精度达到纳米级，部分产品已通过 ASML 认证。作为芯上微装等国产设备厂商的光学模组核心供应商，其精密测量模块已稳定进入国产光刻设备供应链。凭借在超精密光学领域的技术壁垒，公司毛利率长期维持在 60% 以上，展现出极强的盈利能力。在光学系统这一光刻机核心壁垒环节，公司具备不可替代的国产龙头地位。
奥普光电背靠中科院长春光机所，是光刻机光学系统研发的核心 “国家队” 平台，承担着国家 02 专项光刻机物镜系统的研发任务。公司自主研发的纳米级光刻机工作台国内市占率超 60%，为上海微电子提供的纳米级干涉仪定位精度达纳米级，更深度参与 EUV 光学系统的关键研发工作。依托科研院所的技术支撑，公司技术转化与商业化进程持续加速，且获光刻机首台套专项政策资金支持。随着国产光刻机国产化率向 30% 跨越，公司作为核心光学部件供应商，将直接承接技术突破带来的增量需求。
珂玛科技专注于半导体前道工艺设备研发，在光刻机配套的涂胶显影设备及精密部件领域具备核心竞争力。公司自主研发的全自动涂胶显影机，可实现光刻胶均匀涂布（膜厚均匀性误差＜3%）与精准显影，适配 8-12 英寸晶圆制程，已通过中芯国际、华虹半导体等头部晶圆厂验证并实现量产交付；同时，为光刻机研发的精密载物台传动部件，定位精度达 ±0.002mm，传动平稳性优于行业标准，有效保障光刻过程中晶圆的精准定位。作为光刻工艺关键配套设备供应商，珂玛科技将深度受益于光刻机产业链国产化推进，业绩增长潜力显著。
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来源：股海无涯一点号
