摘要：今日，璞璘科技宣布其自主研发的PL-SR系列喷墨步进式纳米压印设备于2025年8月正式交付国内客户，标志着中国首台10nm级半导体级纳米压印光刻系统实现量产突破。

今日，璞璘科技宣布其自主研发的PL-SR系列喷墨步进式纳米压印设备于2025年8月正式交付国内客户，标志着中国首台10nm级半导体级纳米压印光刻系统实现量产突破。

该设备不仅攻克了非真空环境下的步进硬板贴合，还掌握了喷墨式纳米涂胶及模板面型精度控制等核心技术，实现平均残余层7:1的指标，性能是远远超越日本佳能同类产品（14nm线宽），并且设备能耗较EUV技术降低了90%，成本缩减60%。

作为后摩尔时代的新型制造装备，该技术尤其适用于3DNAND闪存、硅光芯片等，特种芯片领域，目前已完成存储芯片、硅基微显等，四大场景的工艺验证。

而此次国产10nm级光刻机实现交付，这不仅打破了国外技术长久以来的垄断，还给我国高端芯片相关企业带来了一波红利浪潮。

本期内容是根据与光刻机产业链相关联进行挖掘，筛选出了光刻机概念正宗的7家公司，供大家研究参考。

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来源：走进科技生活