摘要：在全球半导体产业链重构的浪潮中，国产设备突围始终是市场关注的焦点。近期，一家名为"新凯来"的半导体装备企业因密集的供应链合作动态引发行业热议——这家专注全流程设备研发的企业，不仅在高价值量核心零部件领域实现突破，更带动了一批A股上市公司深度参与，形成了一条隐形
在全球半导体产业链重构的浪潮中，国产设备突围始终是市场关注的焦点。近期，一家名为"新凯来"的半导体装备企业因密集的供应链合作动态引发行业热议——这家专注全流程设备研发的企业，不仅在高价值量核心零部件领域实现突破，更带动了一批A股上市公司深度参与，形成了一条隐形的"国产替代军团"。
作为半导体设备国产替代的先锋，新凯来的核心价值在于"全流程覆盖+核心部件攻坚"。其设备布局涵盖光刻、量检测等关键环节，尤其在光学监测、原子力显微镜（AFM）-X射线多模检测等领域，已实现核心零部件国产化。这种"从0到1"的突破，不仅降低了国内晶圆厂的设备依赖，更让产业链上的配套企业迎来技术升级与订单放量的双重机遇。
在新凯来的设备蓝图中，上下游供应商的技术协同是关键。梳理其核心合作方，多家A股公司已展现出"技术卡位+订单爆发"的双重优势。
核心零部件领域：精密制造能力受验证
新莱应材：作为刻蚀、薄膜沉积设备的"血管"供应商，其超高纯净度管路系统与真空阀门已达ISO 14644-1 Class 1级洁净度，适配EUV光刻机极端环境。2024年三季度订单同比增48%，全年获8000万元订单，2025年更收获数亿级大单，技术壁垒获头部客户认可。至纯科技：新凯来湿法清洗设备的独家伙伴，28nm设备已量产，14nm以下机型正进入中芯国际验证。2024年订单同比暴增300%，子公司至微科技更拿下部分先进制程订单，清洗环节国产化进程加速。奥普光电：依托控股股东长春光机所技术，其合资公司长光集智独家供应光刻机曝光系统核心部件。目前深紫外物镜分辨率达22nm（通过中科院微电子所验证），2026年将量产适配EUV的光学模组，直接对标国际顶尖水平。利和兴：为刻蚀、薄膜设备提供精密结构件与测试夹具，2024年来自新凯来的订单贡献显著，预计金额7-8亿元，精密制造能力深度嵌入设备产线。美利信：通过子公司供应刻蚀设备腔体（占单机成本15%），2025年半导体业务营收预计翻倍，订单供不应求，结构件国产化替代加速。关键材料领域：填补空白补短板
江丰电子：新凯来PVD设备主靶材供应商，覆盖铝、钛、钽靶材，适配14nm逻辑芯片及128层3D NAND。作为国内唯一5nm制程靶材量产企业，2025年订单超2亿元，更计划推进静电吸盘国产化，技术护城河持续加宽。南大光电：ArF光刻胶通过中芯国际28nm产线验证，适配新凯来SAOP曝光工艺，可用于5nm等效制程。2024年光刻胶收入同比增170%，材料端突破与设备端形成共振。路维光电：自2024年起向新凯来批量交付40-55nm光掩膜版，28nm产品进入验证，2025年产能提至10万片/年，订单覆盖头部晶圆厂及新凯来，掩膜版国产化再进一步。聚和材料：收购韩国SKE空白掩膜版业务后，成功填补国内7nm掩膜版空白，与新凯来的合作进一步完善光刻环节材料配套。新凯来的崛起，本质是国产半导体设备"从单点突破到生态协同"的缩影。其供应链上的A股公司，或凭借精密制造能力（如新莱应材、奥普光电），或依托材料技术积累（如江丰电子、南大光电），正从"配套商"升级为"核心参与者"。随着新凯来设备在晶圆厂的导入加速，这些企业的技术验证与订单放量将持续兑现，有望成为半导体板块中兼具成长确定性与技术壁垒的优质标的。
在国产替代不可逆的趋势下，这些卡位关键环节的"隐形冠军"，或许正站在半导体设备国产化的新浪潮之巅。
来源：走进科技生活
