摘要:黑色皮衣下的黄仁勋伸出右手,比划出一个几乎难以察觉的手势:“几纳秒”——这个时间单位短暂到需要精密仪器才能测量,却恰如其分地隐喻着当前中美芯片竞争的微妙态势。
黑色皮衣下的黄仁勋伸出右手,比划出一个几乎难以察觉的手势:“几纳秒”——这个时间单位短暂到需要精密仪器才能测量,却恰如其分地隐喻着当前中美芯片竞争的微妙态势。
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黄仁勋“几纳秒”的隐喻
“中国落后美国几纳秒,所以我们必须去竞争。”英伟达CEO黄仁勋在9月26日播出的Podcast节目《Bg2 Pod》中发表这一观点后,迅速引发业界广泛讨论。作为全球AI芯片领域的领军者,黄仁勋一反美国科技界常有的技术封锁论调,公开肯定中国芯片的发展潜力。
黄仁勋的表述打破了传统以工艺节点(如“5纳米”“7纳米”)衡量差距的框架,转而用时间单位暗示动态竞争中的微小间距。一方面,中国在芯片研发与制造上展现“极强的潜力”,尤其是人才储备和内部竞争环境推动创新加速。华为昇腾910B芯片批量出货、中芯国际N+2工艺突破(等效7nm)等进展,验证了这种潜力正转化为实际能力。
另一方面则是工艺节点的现实差距,与传统观点对比鲜明。此前分析普遍认为中国自主制程停留在14nm,而美国英特尔已宣布2025年量产1.8nm芯片,高端GPU算力领先超40%(如英伟达RTX 5090达3352 TOPS vs 中国特供版2375 TOPS)。
黄仁勋的“时间差”论调,实则是将焦点从静态技术代差转向动态发展速度,暗示中国追赶的加速度可能超预期。
这位英伟达掌舵人的言论出现在一个敏感时点——美国政府对华芯片出口管制不断加码,而英伟达正计划恢复向中国客户出货其H20 AI GPU。在技术民族主义抬头的背景下,黄仁勋的“几纳秒”比喻不仅是一种技术判断,更成为地缘政治与全球芯片市场博弈的风向标。
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“几纳秒”差距背后的真实技术鸿沟
黄仁勋的“几纳秒”比喻需要放在具体技术背景下理解。从AI芯片性能演进角度看,英伟达确实感受到了中国追赶的速度。黄仁勋在CES上透露,英伟达AI芯片效能比十年前提高了1000倍,远快于摩尔定律设定的标准。
然而,整体芯片制造工艺的差距依然明显。根据2024年数据,中国最先进的自主制程仍停留在14纳米水平,而美国英特尔已宣布2025年下半年量产1.8纳米芯片。这种代际差距在高端芯片制造领域尤为突出,特别是在EUV光刻机等核心设备方面中国仍面临限制。
芯片产业链各环节的差距也不尽相同。在设计领域,美国在EDA软件领域占据74%的市场份额,中国仅占3%;在逻辑芯片设计领域,美国占67%,中国只占5%。在设备领域,美国占41%,中国仅占2%芯片制造产能方面中国反而占优势,美国占15%,中国占17%。
在封测领域,中国占据46%的份额,美国仅占2%。这表明中国在芯片产业后道工序上已具备国际竞争力,但在核心技术和高端制造方面仍存在结构性差距。
黄仁勋的“几纳秒”说法可能特指AI芯片设计领域的差距。中国在AI芯片方面确实取得了显著进展,华为推出的昇腾910B芯片已实现批量出货,并制定了雄心勃勃的2027年发展路线图。下一代昇腾芯片旨在达到甚至超越当前一代芯片的性能,这些系统针对中国自主研发的软件堆栈进行了优化。
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国产替代
在夹缝中崛起的中国芯片产业
面对技术封锁,中国芯片产业正通过多种路径实现突破。华为全新Atlas 900 A3 SuperPoD系统,搭载其昇腾910B芯片,现已批量出货。该公司制定了雄心勃勃的2027年发展路线图,旨在达到甚至超越当前一代芯片的性能。
在制造工艺方面,中芯国际14nm工艺良率已提升至95%,7nm/5nm技术攻关正在进行中。
此外,中国还在探索替代技术路径,如璞璘科技纳米压印设备支持10nm以下线宽,产能较传统光刻机提升3倍,成本下降60%,为EUV光刻机替代提供了可能。
在存储芯片领域,长江存储已实现32层、64层3D NAND量产,打破国外垄断;长鑫存储19nm DRAM芯片量产,技术对标国际主流。这些突破意味着中国在部分细分领域已具备国际竞争能力。
中国芯片产业已形成三大核心区域集群:长三角地区以上海、江苏、浙江为核心,覆盖设计、制造、封装测试全链条;京津冀地区依托北京高校与科研院所,在芯片设计、人工智能芯片领域领先;西北地区则凭借气候干燥、电力成本低等优势崛起。
政策支持也为芯片产业发展提供了强劲动力。国家集成电路产业投资基金(大基金)二期投入超500亿元,重点扶持AI芯片设计、先进封装等环节。通过“东数西算”工程、智能汽车等场景拉动需求,中国正在构建完整的芯片产业生态。
04
全球产业链重构带来的机会
黄仁勋在公布英伟达技术路线图时透露,公司正在向更先进的芯片架构演进:Blackwell Ultra将于今年下半年推出,2026年下半年推出Rubin,2027年下半年推出Rubin Ultra,2028年推出Feynman。这种快速迭代对中国芯片产业既是挑战也是机遇。
对于未来芯片发展形态,黄仁勋提出了更加革命性的愿景:“未来我们会运用不同的方式来进行计算”,从当前单芯片架构转向多芯片复合系统。他甚至预测:“复合型芯片会有不同的形态,或许它会像桌子这么大。”
这种变革可能为中国芯片产业提供弯道超车的机会。中国在量子科技、光计算等新兴领域已展现出创新能力。2025年,中国科研团队发表的集成光量子芯片成果被《自然》杂志审稿人评价为 “重要里程碑” 。超导量子计算原型机“祖冲之三号”仅需百秒即可处理“超算”需要约60亿年才能解出的问题。
面对特朗普可能实施的关税政策,黄仁勋表现出务实态度:“我很乐意和他(特朗普)会面并给予祝贺,尽我们所能让这届政府成功。”这种姿态反映了全球科技企业面对政治不确定性时的灵活应对策略。
全球芯片产业可能逐渐形成“多极共存”格局,北美、东亚和欧洲各自形成相对完整的区域供应链。但黄仁勋提醒,全球化分工规律难以逆转,芯片产业高度依赖全球协作的本质不会改变。
来源:电脑报评论