摘要：在微纳加工、半导体光刻、医疗激光等高精度领域，光学元件的耐损伤性和高反射率直接决定产品的产能与成本。Acton光学最新推出的 e‑Design（高能量密度‑低重复率）与XL‑Design（低能量密度‑高重复率）双系列激光镜面，凭借创新的层间电场强度（EFI）分
【深度解读】Acton紫外激光反射镜&分束器——高功率UV激光的可靠之选
导语
在微纳加工、半导体光刻、医疗激光等高精度领域，光学元件的耐损伤性和高反射率直接决定产品的产能与成本。Acton光学最新推出的 e‑Design（高能量密度‑低重复率）与XL‑Design（低能量密度‑高重复率）双系列激光镜面，凭借创新的层间电场强度（EFI）分布技术，显著提升激光耐受性，提供96‑98% 的超高反射率，已成为业界标配。本文将为您拆解这些技术亮点，帮助您快速匹配最适合的光学方案。
一、核心技术亮点
1. e‑Design —— 高能量密度‑低重复率的极致防护
• 适用频率：≈200 Hz
• 核心原理：通过在多层结构中分散EFI峰值，降低单层电场强度，显著抑制EFI引发的损伤。
• 效果：激光损伤阈值提升，涂层寿命延长，在193 nm波段实现≥98%反射率（M193‑FRe‑系列）。
2.XL‑Design —— 低能量密度‑高重复率的稳定输出
• 适用频率：4‑5 kHz
• 核心原理：混合结构+平衡应力设计，抑制微缺陷导致的灾难性破坏，防止高重复率下的脱水效应。
• 效果：在极高重复率条件下仍保持≥96%反射率（M193‑FRXL‑系列），并通过MIL‑SPEC附着力、耐磨、耐湿测试。
3.全波段覆盖，单元化产品编号一键匹配
• 波长范围：126 nm ~ 353 nm（包括VUV、UV、深紫外）。
• 典型反射率：
126 nm ≥ 55%
157 nm ≥ 89%
193 nm e‑Design ≥ 98% / XL‑Design ≥ 96%
353 nm ≥ 99%
• 标准尺寸：1″、2″ 直径，多种厚度可选，兼容Acton标准基底/定制基底/客户自供材料。
4.高性能分束器&衰减片
• 多层介电低吸收涂层，适用于10%‑90%不同透射比例。
• 支持随机偏振/ P偏振/ S偏振定制，满足 医学、半导体、微加工多场景需求。
5.超宽带Al+MgF2镀膜（120‑190 nm）
• 业界领先≥78%（120 nm）、≥87%（190 nm）的宽带反射率。
• 适用于VUV光谱仪、Ellipsometry、空间应用等高灵敏度仪器。
二、为何选择Acton光学？
【强烈推荐】若您仍在为激光镜面寿命短、反射率不足而烦恼，Acton Optics 的最新涂层技术是提升产线效率、降低维护成本的最佳方案。
三、产品选型快速指南
1.确定激光波长&重复率
• 193 nm & ≈200 Hz → 选e‑Design（M193‑FRe‑系列）
• 193 nm & 4‑5 kHz → 选XL‑Design（M193‑FRXL‑系列）
2.选择基底尺寸
• 1″ 适用于小孔径系统
• 2″ 适合大口径高功率激光
3.确认需求的反射率或透射比例
• 高反射需求 → 选对应波段的 FR/FR45系列。
• 分束/衰减需求 → 参考 P10‑P90系列分束器编号（如 M193‑P5045‑1D‑MB）。
4.特殊环境（如真空、潮湿）
• 需防潮、耐磨 → 选 MIL‑SPEC通过的 XL‑Design。
【操作提示】在下单前，请提供激光波长、工作角度（0°/45°）、基底材料（如Fused Silica、CaF2）与尺寸要求，我们的工程师将为您完成一键匹配。
四、真实案例分享
案例一：半导体光刻厂
• 痛点：193 nm 高功率激光导致镜面频繁更换，产能下降 15%。
• 方案：采用 Acton e‑Design（M193‑FRe‑1D‑MB）镜面，配合定制 45° 入射角。
• 结果：镜面寿命提升 3 倍，反射率保持在 98% 以上，整体产能恢复 12% 以上。
案例二：生物医学微加工
• 痛点：10%‑90% 可变衰减需求频繁更换分束器，导致工艺不稳定。
• 方案：使用 Acton 可定制 P‑系列分束器（如 M157‑P5045‑2D‑MB），实现P偏振优化。
• 结果：功率调节响应时间
来源：RYMO