摘要：原因是，新凯来首次公开亮相，就一口气展示了6大类共31款产品，覆盖半导体制造多个环节。

芯片界的DeepSeek时刻，国产光刻机不远了？

前几天的中国国际半导体展上，最受关注的是一家成立仅3年的深圳公司——新凯来。

原因是，新凯来首次公开亮相，就一口气展示了6大类共31款产品，覆盖半导体制造多个环节。

最重要的一点，按照新凯来的说法，所有这些产品的核心零部件全部实现100%国产化。

一鸣惊人的新凯来，究竟是什么来头？新凯来发布31款产品，意味着什么？国产光刻机离我们还有多远？

今天我们就来谈谈这些问题，码字不易，欢迎点赞，转发，收藏。

这次新凯来发布的31款半导体产品，命名很有意思。

比如外延沉积设备叫“峨眉山”，原子层沉积设备叫“阿里山”，刻蚀设备叫“武夷山”，薄膜沉积设备叫“长白山”。

无论是工艺装备，还是检测装备，都是以中国的名山作为命名，非常有特色。

从中也能看到企业自主创新的国产替代决心，不畏险阻、勇攀高山，势必要打破垄断。

虽然一夜爆火，但提起新凯来这个名字，大多数人可能还很陌生。

这是一家仅仅成立3年的企业，而且前3年基本没什么消息，就连官方公众号都是这个月才正式注册，相当于第一次走进大家的视线。

不过，新凯来母公司是深圳市新凯来技术有限公司，属于深圳市重大产业投资集团的一员，背靠深圳市国资委，名副其实的“国家队”。

深圳市重大产业投资集团，这个含金量有多高呢？

官网上，深重投布局的重大产业项目一共就3个，分别是华润微电子深圳12英寸集成电路生产线、第三代半导体产业链项目，还有联合中芯国际做的中芯深圳高端芯片制造项目。

所以摆明了，新凯来也是深圳在半导体产业链上布局的重要一环，用4个字形容就是根正苗红。

值得一提的是，有消息称新凯来前身与华为关系非常密切，而且中国名山的命名方式似乎也带有浓重的华为色彩。

3年磨剑，新凯来把国产光刻机带入DeepSeek时刻，迎来一波大爆发。

大家都知道，最近几年时间，我们正在打一场国产光刻机的突围战。

就在前年，台积电的董事长张忠谋还曾发言，说大陆在14纳米以下的高端芯片上，产量几乎为0，技术至少落后两代。

“如果美国想要以此扼杀中国大陆，他们真的无能为力。”

坦白来讲，虽然张忠谋话说得糙了点，但几十年的差距确实客观存在，更需要我们奋起直追。

而要说中国真的无能为力，那么这个结论恐怕下得太早了。

以这次火出圈的新凯来为例。

就在4年前，国内在量检测高端装备领域几乎是完全空白一片，包括装备和对应的零部件、材料及工艺基础等各个方面，可以说是样样不行。

根据VLSI Research和QY Research的调查数据显示，该行业的CR5指数高达82%，也就是行业内前5大企业的市场份额总额占比能占到82%。

并且这排名前5的装备供应商，不是来自欧美就来自日本。

但现在4年时间过去，包括新凯来在内的国内半导体装备企业已经实现突围，打破了之前的垄断。

更重要的是，据新凯来公开资料性显示，其部分设备可以支持7nm以下先进制程，而且已经通过产线验证。

7nm，有什么特殊含义吗？

一直以来，7nm被半导体行业视为技术的分水岭，突破了这个界限，就意味着已经能满足全球90%以上的芯片需求。

这场持续数年的国产光刻机突围战，又一次收到了辉煌战果。

现在整个蓝星的“光刻机之王”，毫无疑问还是荷兰的ASML，生产7nm以下高端芯片所需要的EUV光刻机，全世界只有ASML能生产。

换句话说，ASML就是完全垄断，市场份额接近100%。

但是，这里要说的是国产光刻机离我们也没有那么远，早在去年9月份的时候，工信部就已经官宣了一款28nm的DUV光刻机，当时还在国外社交媒体上引发了不少关注。

28nm，距离7nm是不是有点太遥远？

从技术层面上来看，确实如此，ASML制造高端EUV光刻机的极紫外线光源，只有美国Cymer公司具备成熟技术，反射镜面的厂商在德国，芯片上用的符合材料、光刻胶，高纯度化学品，基本都是日本专利。

但与此同时，按照我们过往的风格，一直都是应用一批、研发一批、储备一批，所以官宣的很可能不是最先进的。

尤其是光刻机如此敏感的领域，一些最新的进展信息，外界几乎没什么获得渠道，只能靠猜。

去年9月10日，上海微电子公告显示已经申请了“极紫外辐射发生装置及光刻设备”的发明专利，而提交时间是两年以前。

现在新凯来大爆发，背后释放的信号很可能是，中国光刻机产业的集中攻坚已经有了长足发展，某些细分领域的“卡脖子”已经不复存在了。

从这样的角度来说，国产光刻机的距离不会太遥远，新能源汽车领域弯道超车的故事，正再一次在半导体产业上演。

写在最后：

新凯来横空出世，中国半导体行业协会的魏少军教授感慨：

“新凯来的亮相证明，半导体行业是干出来的，不是喊出来的！”

事实证明也确实如此，虽然这几年半导体行业曝出来的大新闻并不多，但国产光刻机技术一直在进步，坚持自主研发创新，真正打破垄断只是时间问题。

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来源：走进科技生活