盘点台积电全球晶圆厂产能和制程

B站影视 电影资讯 2025-03-18 17:34 1

摘要:Fab 12是台积电新竹科技园的重要生产基地,专注于20nm至7nm工艺的量产,覆盖智能手机、高性能计算(HPC)等高端芯片需求。早期以16/20nm为主力(如苹果A9处理器)后逐步升级至7nm(如苹果A12、AMD Zen 2架构CPU)

半导体工程师 2025年03月18日 09:25 北京

下图是台积电的制程演进历史,从3um到现在的3nm。

目前台积电3nm(N3)已经量产,这里3nm都是等效节点,非实际的物理节点。

2nm(N2)计划在2025年量产。

而下下代则是A16节点。也就是1.6nm

基于此,我们详细介绍一下,台积的各个FAB厂制程和产能。

一,12英寸晶圆厂

中国台湾地区:

Fab 12(新竹):量产20-7nm工艺,规划产能可扩容。

Fab 12是台积电新竹科技园的重要生产基地,专注于20nm至7nm工艺的量产,覆盖智能手机、高性能计算(HPC)等高端芯片需求。早期以16/20nm为主力(如苹果A9处理器)后逐步升级至7nm(如苹果A12、AMD Zen 2架构CPU)

Fab 14(台南):扩建为特殊制程生产基地,支持28nm及以上成熟工艺。

Fab 14是台积电成熟制程的核心基地,专注于28nm及以上工艺,并强化特殊制程(如射频、高压、嵌入式存储器等),服务于汽车电子、物联网(IoT)和工业控制领域,

特殊制程包括:28nm高压工艺(车用电源管理芯片);40nm RF-SOI

(5G射频前端模组);55nm嵌入式闪存(智能卡、传感器)。

Fab 15(台中):2012年投产,当前月产能约16.6万片,主攻20/16nm工艺。

Fab 18(台南):台积电最先进生产基地,包含P1-P8共8座厂区:

P1-P3已量产4nm;

P4-P6为3nm(2024年量产);

当前P1-P6共6个晶圆厂,月产能约12万片(4nm/3nm)。

P7-P8为规划中3nm扩产;

Fab 20(新竹宝山):2nm研发及量产基地,2025年试产线月产能达3000-3500片,2026年底目标12万片/月。

南京浦口(中国大陆):

Fab 16:2018年投产,月产能2.4万片,主攻16/12nm工艺。

第一阶段扩产(1A项目):制程技术:16nm+12nm工艺组合,主要用于生产中央处理器、图像处理器、高端系统单芯片等。

2022年10月完成扩建后,产能从原30万片/年提升至37.8万片/年;

第二阶段扩产(1B项目):制程技术:28nm工艺,主要面向成熟制程需求,包括物联网、汽车电子和工业芯片等。

2024年10月完成验收后,新增60万片/年产能;


凤凰城(美国亚利桑那州):

Fab 21(凤凰城):2024年底量产4nm芯片(N4/N4P),当前月产能1万片,计划2028年扩展至3nm,2030年推进2nm。

第一阶段(P1A+P1B)总产能目标2.4万片/月。

日本熊本:

JASM Fab 1:2024年底量产22/28nm和12/16nm,规划月产能5.5万片;

Fab 2(6/7nm)计划2027年投产,合计产能超10万片/月。


二,8英寸晶圆厂(成熟制程与特殊工艺)

1:中国台湾地区:

Fab 3(新竹):工艺节点:0.15μm及以上成熟制程

8英寸晶圆厂,主要用于生产模拟芯片、电源管理芯片等特殊工艺产品。

Fab 5(新竹):0.25-0.15μm成熟制程

8英寸晶圆厂,专注于汽车电子、物联网(IoT)等中低端芯片制造。

Fab 6(台南):0.18μm及以上成熟制程

8英寸晶圆厂,支持混合信号、射频(RF)等特殊工艺需求。

Fab 8(新竹):工艺节点**:0.18μm及以上成熟制程

8英寸晶圆厂,服务于消费电子和工业控制领域。

2:中国大陆:

Fab 10(上海):工艺节点:0.35μm至0.11μm成熟制程

8英寸晶圆厂,主要生产模拟芯片、传感器等,支持汽车电子和消费电子市

3:新加坡:

SSMC(新加坡合资厂)等,合计月产能超50万片。

4:美国:

Fab 11(WaferTech):1998年投产,生产0.25-0.15μm工艺,产能未公开。


6英寸晶圆厂

Fab 2(新竹):生产0.15μm以上工艺,产能未公开。

三,未来产能规划与扩建项目

中国台湾:

• 2nm(N2):

• 台湾:新竹Fab 20与高雄Fab 22同步推进,2025年底合计月产能达5万片,2026年底扩至12-13万片/月。

• 1nm(A14):

• 台南沙仑Fab 25:规划建设6条12英寸产线,预计2028年后试产,目标成为全球首个1nm量产基地。

美国亚利桑那凤凰城:

计划追加投资1000亿美元,新建3座晶圆厂(含2nm)、2座先进封装厂及研发中心,总投资达1650亿美元。

日本:Fab 3(1nm以下)预计2030年后启动。

德国:与博世等合作建设车用芯片厂,规划中。

三,产能利用率与市场需求

台积电2024年产能利用率超95%。

2025-2026年产能已被预订。

AI/HPC:CoWoS先进封装需求激增,2025年产能预计达80万片/周。

消费电子:苹果A18(3nm)、AMD CPU(4nm)等订单持续。

汽车电子:日本工厂聚焦车用芯片,月产能5.5万片。

类别

现有产能

(12 寸等效)

2026 年目标

2030 年展望

台湾(先进制程)

超 50 万片 / 月

2nm 达 12 万片 / 月

1nm 量产

美国

2.4 万片 / 月(4nm)

3nm 量产

2nm + 背面供电技术

日本

5.5 万片 / 月(12/16nm)

10 万片 / 月(6/7nm)

1nm 以下规划中

全球总产能

超 130 万片 / 月

突破 200 万片 / 月

250 万片 / 月以上


目前台积电的等效产能约为130万片/月,每年1600万片

综上:

台积电大部分产能(70%-80%)位于中国台湾地区,目前已经开始向美国,日本,欧洲方向的产能布局。

来源于歪睿老哥,作者歪睿老哥

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来源:芯片测试赵工

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