摘要：半导体圈炸锅了！就在上周，一家名叫璞璘科技的中国公司干了一件大事——国内首台半导体级纳米压印光刻机PL-SR正式交付客户！这台“中国印”可不简单：线宽直接干到10nm以下，把日本佳能同类设备甩在了身后。更解气的是，佳能同类设备一直对中国禁运，如今咱们自己搞出来

半导体圈炸锅了！就在上周，一家名叫璞璘科技的中国公司干了一件大事——国内首台半导体级纳米压印光刻机PL-SR正式交付客户！这台“中国印”可不简单：线宽直接干到10nm以下，把日本佳能同类设备甩在了身后。更解气的是，佳能同类设备一直对中国禁运，如今咱们自己搞出来了，西方卡脖子的手又被掰开一根指头！

这设备牛在哪？三个数字说明一切：

平均残余层厚度＜10nm——相当于头发丝的万分之一；

残余层波动＜2nm——比高端口红涂得还均匀；

深宽比＞7:1——能在纳米尺度“挖”出陡峭深坑。

更绝的是它攻克了三大“地狱级”难题：

非真空贴膜术：像给手机贴膜一样，在普通环境下一把压平12英寸晶圆，省掉昂贵真空设备；

智能喷胶黑科技：芯片图案复杂？喷胶量自动动态调节，胶薄如蝉翼却滴水不漏；

模板防翘曲系统：石英模板和硅片天生爱“翘屁股”，硬是靠算法让它们严丝合缝。

就连清洗胶水都玩出花样——自研可溶剂洗的光固化胶，避免百万级石英模板被污染报废，这省钱的功夫绝了！

对芯片厂来说，PL-SR简直是“省钱神器”：

设备价格仅为EUV光刻机的40%，投资门槛大降；

耗电只有EUV的10%，电费账单直接抹个零。

尤其让长江存储等国产存储厂狂喜——3D NAND闪存这类“千层饼”芯片，图形结构重复率高，用纳米压印比EUV更划算。佳能曾吹嘘“纳米压印价格比EUV少一位数”，如今被中国公司实现了！

但别急着喊“光刻机革命”！这技术也有软肋：
造手机CPU/GPU等逻辑芯片效率低——每层电路都得换模板，堪比活字印刷术拼激光打印机；
量产速度仍待验证，毕竟物理压印比“光照复印”慢半拍。

此前全球纳米压印设备被日本佳能垄断，其旗舰机FPA-1200NZ2C支持14nm线宽，却上了对华禁运名单。璞璘的10nm设备一出，不仅参数反超，更让中国在存储芯片、硅光芯片（激光雷达核心）、AR微显领域握紧自主筹码。

更深远的是，它开辟了一条“农村包围城市”的芯片制造路径：

先靠纳米压印攻克存储芯片，再用利润反哺攻关逻辑芯片，最终打破EUV霸权！

璞璘已联手科研机构死磕＜10nm对准精度技术——这是堪比EUV难度的终极关卡。若突破，中国芯真能换道超车！

璞璘科技看似名不见经传，实则藏龙卧虎：

创始团队人均二十年行业老炮，与纳米压印发明人Stephen Chow院士深度合作；

公司90%员工是硕士博士，研发天团清一色博士帽；

从科研小设备到量产大机器全自研，手握100多项专利。

这家杭州企业用五年时间，把实验室技术变成抗衡巨头的硬装备，堪称“扫地僧”式逆袭！

璞璘的突破，短期看是给国产存储芯片“雪中送炭”，长期看则为中国半导体埋下换道超车的火种。尽管前路仍有高山（对准精度！量产效率！），但此刻值得一句：

中国芯，印出自己的路了！

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来源：走进科技生活