摘要：光刻胶又称光致抗蚀剂，是通过紫外光等照射或辐射，溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。全球光刻胶市场约40亿美元，其中g/i线、KrF、ArF光刻胶占比超80%。日本企业（如JSR、东京应化）占据全球85%以上高端市场，国产化率不足10%，尤其在ArF及以上节点几

光刻胶又称光致抗蚀剂，是通过紫外光等照射或辐射，溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。全球光刻胶市场约40亿美元，其中g/i线、KrF、ArF光刻胶占比超80%。日本企业（如JSR、东京应化）占据全球85%以上高端市场，国产化率不足10%，尤其在ArF及以上节点几乎空白。

日本对光刻胶等半导体相关物项实施出口管制，国产替代需求迫切，国内相关企业迎来发展机遇，资金涌入布局国产光刻胶企业。2024年国家大基金三期注资超3000亿元。政策+技术双轮驱动，催生资本市场对“卡脖子”环节的集中关注。

随着半导体产业向更高制程迈进，对光刻胶需求持续增加，预计2027年国产化率有望提升至30%，替代空间巨大。国内在政策支持下，企业研发投入加大，技术不断突破，有望在高端领域实现进口替代，光刻胶行业前景广阔。

今天也给大家梳理了“光刻胶”相关的十大核心股，以便供大家研究参考。

1.波长光电

地位：国内精密光学元件领先企业。

概念：为具备光刻机配套大孔径光学镜头能力，开发的平行光源系统用于芯片光刻工序。

与光刻胶板块联系：在于其产品是光刻工艺的重要配套，光刻工艺链上游关键部件供应商，受益于设备国产化趋势。

2.张江高科

地位：是深度绑定国内光刻机龙头企业的上市公司。

概念：持有中芯国际、中微公司等多家芯片龙头股权，打造“科技+金融”生态。

与光刻胶板块联系：是上海微电子的光刻机是光刻胶应用的关键设备，通过参股上海微电子（SMEE），深度绑定国产光刻机与材料协同发展

3.爱司凯

地位：工业打印设备制造商。

概念：为专注于半导体专用设备研发生产，主要产品涵盖无掩膜光刻机等。

与光刻胶板块联系：是其无掩膜光刻机可用于光刻工艺，替代传统光刻胶曝光工艺，属于“非光刻胶路径”的光刻技术，具备技术变革潜力。

4.飞凯材料

地位：是光刻胶领域双轮驱动的企业。

概念：为 TFT-LCD 光刻胶国产市占率达 22%，打破日韩垄断，且是国内唯一量产 PSPI 企业，光引发剂全球市占率 60%-70%。

与光刻胶板块联系：其产品广泛应用于光刻胶相关领域，是国内少数具备光刻胶量产能力的企业，国产替代主力之一。

5.蓝英装备

地位：自动化与智慧城市建设商。

概念：主营轮胎机械、数字化工厂、智慧城市系统。具备自动化集成能力，产品用于半导体洁净厂务系统。

与光刻胶板块联系：自动化系统可用于光刻胶生产过程中的洁净输送与智能控制，属产业链配套企业。

6.国林科技

地位：是在光刻胶清洗工艺领域有相关产品的企业。

概念：为子公司国林半导体臭氧设备产品用于半导体等行业的光刻胶去除等工艺。

与光刻胶板块联系：臭氧清洗可减少光刻前污染物，提升光刻胶附着力，保障光刻胶工艺后续处理流程顺利进行。

7.晶方科技

地位：是全球领先的 CIS 芯片封测服务商。

概念：为子公司 ANTERYON 为 ASML 提供光刻机光学涂层，涉及光刻胶配套光学技术。

与光刻胶板块联系：封装环节需使用光刻胶进行再布线（RDL）和凸块制作，是光刻胶产业链中光学配套环节的重要参与者。

8.航天智造

地位：是在 PCB 级光刻胶领域实现国产替代的企业。

概念：为有 PCB 级的光刻胶产品感光干膜，已打破进口垄断，且与京东方等龙头企业合作。

与光刻胶板块联系具备高精度制造基础，市场炒作中被归类为“高端制造+国企改革”标的，是光刻胶产业国产化重要力量。

9.强力新材

地位：是国内少数实现光刻胶专用化学品全品类覆盖的企业。

概念：为主要从事光刻胶用光引发剂和光刻胶树脂研发生产，2024 年半导体光刻胶业务有一定占比，拥有多项专利技术。

与光刻胶板块联系：光刻胶核心原材料供应商，其PAC和树脂是光刻胶关键组分，在光刻胶产业中具有关键原材料供应的重要地位。

10.惠伦晶体

地位：是光刻胶配套石英材料领域的企业。

概念：为提供光掩模石英基板、高纯石英锭等，石英材料纯度达 9N 级，成本低于贺利氏 30%。

与光刻胶板块联系：是其石英材料是光刻胶相关工艺中光掩模等的重要原材料，半导体设备配套元件商，间接受益于光刻产业链国产化。

特别声明：仅用于探讨相关企业在该领域的应用与贡献，不构成任何投资建议或决策依据，仅供信息参考。投资有风险，入市需谨慎，请基于自身判断独立决策。

来源：财经大会堂