摘要:10月23日,国家标准委网站一则公示信息,让国内半导体产业界为之振奋——我国首个《极紫外(EUV)光刻胶测试方法》拟立项标准正式进入公示期,公示截止时间为11月22日。作为EUV光刻胶领域的首个国家标准,其背后不仅是技术标准化的突破,更意味着我国在半导体“卡脖
10月23日,国家标准委网站一则公示信息,让国内半导体产业界为之振奋——我国首个《极紫外(EUV)光刻胶测试方法》拟立项标准正式进入公示期,公示截止时间为11月22日。作为EUV光刻胶领域的首个国家标准,其背后不仅是技术标准化的突破,更意味着我国在半导体“卡脖子”材料——EUV光刻胶的国产化进程中,迈出了从“无序研发”到“有序规范”的关键一步。
EUV光刻胶,作为极紫外光刻技术的核心材料,是制造7nm及以下先进制程芯片的“必备原料”。其性能直接决定了芯片的制程精度与良率,堪称半导体制造的“皇冠上的明珠”。然而,长期以来,EUV光刻胶市场被日本JSR、东京应化等企业垄断,国内企业虽有布局,但因缺乏统一测试标准,国产材料难以进入晶圆厂的量产线——现有测试方法多沿用国外标准,导致国产EUV光刻胶的验证周期长达1-2年,严重制约了国产化进程。
此次国家标准的制定,核心目标便是建立统一的EUV光刻胶性能评价体系。通过明确灵敏度(E0)、线边缘粗糙度(LER)等核心指标的检测流程,标准将为国产EUV光刻胶的验证提供“客观标尺”,大幅缩短导入周期,降低晶圆厂的适配成本。同时,标准的实施将推动测试设备的国产化替代,进一步压缩研发成本,为国产EUV光刻胶的规模化应用铺平道路。
尽管EUV光刻胶的国产化仍处于起步阶段,但已有不少上市公司提前布局,且业绩呈现向好态势。结合三季报数据及企业公告,以下企业值得关注:
晶瑞电材是国内最早规模量产光刻胶的企业之一,其G线/I线光刻胶市占率居国内第一。2025年三季报显示,公司前三季度归母净利润1.28亿元,同比增长超192倍,主要得益于产品毛利上涨及交易性金融资产价格波动。作为光刻胶领域的“老兵”,晶瑞电材已具备EUV光刻胶的研发基础,其产品布局涵盖ArF、KrF等先进制程光刻胶,未来有望借助EUV标准的实施,加速推进EUV光刻胶的国产化。
久日新材是国内光引发剂领域的龙头企业,其产品广泛应用于光刻胶、涂料等领域。2025年三季报显示,公司前三季度归母净利润271.98万元,同比扭亏,主要因部分光引发剂产品提价策略落地。值得注意的是,久日新材正在进行EUV光刻胶所需原材料——光致产酸剂的开发,其产品若能实现突破,将为EUV光刻胶的国产化提供关键原材料支撑。
瑞联新材是国内半导体光刻胶单体的领先企业,其产品涵盖ArF、KrF、EUV等先进制程光刻胶单体。2025年三季报显示,公司前三季度业绩预增,主要因显示材料板块保持平稳发展。值得关注的是,瑞联新材的EUV光刻胶单体产品已通过中试验证,并实现百公斤级销售,标志着公司在EUV光刻胶的核心原材料领域取得了突破性进展。
上海新阳是国内集成电路制造及先进封装用关键工艺材料的领先企业,其EUV光刻胶研发已进入初期阶段。2024年度业绩说明会上,公司表示,EUV光刻胶是其光刻胶布局的重要方向之一。尽管目前仍处于研发初期,但上海新阳作为国内半导体材料领域的“老牌企业”,其技术积累与产业链资源,有望为EUV光刻胶的国产化提供长期支撑。
我国首个EUV光刻胶标准的公示,是我国半导体材料领域的一次“里程碑”事件。它不仅为EUV光刻胶的研发与测试提供了“统一标尺”,更标志着我国在半导体“卡脖子”材料的国产化进程中,从“被动依赖”转向“主动突破”。
对于上市公司而言,EUV光刻胶的国产化进程,将带来新的业绩增长点。晶瑞电材、久日新材、瑞联新材等企业,已通过提前布局与技术突破,站在了EUV光刻胶的“风口”。未来,随着标准的实施与产业的协同,这些企业有望借助EUV光刻胶的国产化,实现业绩的持续增长,成为半导体材料领域的“新龙头”。
当然,EUV光刻胶的国产化仍需时间,但正如业内人士所说:“半导体材料的突破,从来不是一蹴而就的,而是需要长期的积累与坚持。” 我们相信,在政策的支持、企业的努力与科研机构的攻关下,国产EUV光刻胶终将打破国外垄断,为我国半导体产业的自主可控提供坚实支撑。
来源:题材挖掘
