摘要：国产进展：科益虹源（中科院背景）实现248nm KrF光源量产，福晶科技（LBO晶体）参与激光驱动技术。
1.光学系统（14%）
核心材料：熔融石英（德国Heraeus、Schott）、掺钛石英玻璃（美国康宁、德国贺利氏）。
功能：投影物镜由20+高精度镜片组成，用于光路聚焦与像差校正。
国产进展：国内茂莱光学（非球面镜片）、奥普光电（光栅编码器）已部分切入供应链。
2.光源系统（27%）
核心材料：极紫外光源（美国Cymer）、准分子激光器（日本GIGAPHOTON）。
功能：提供13.5nm波长光源，是EUV光刻机核心。
国产进展：科益虹源（中科院背景）实现248nm KrF光源量产，福晶科技（LBO晶体）参与激光驱动技术。
3.精密机械与腔体（32%）
核心材料：超低热膨胀系数陶瓷（日本）、高纯度钛合金（美国）。
功能：支撑真空环境与高精度运动控制。
国产进展：富创精密（真空腔体）、蓝英装备（清洗设备）已批量供货。
4.电子控制系统（15%）
核心材料：高精度传感器（德国）、光刻机控制器（美国）。
功能：协调各模块协同工作，精度达纳米级。
国产进展：电科数字（控制器）、东方嘉盛（温控系统）参与配套。
5.材料与辅助系统（12%）
核心材料：光刻胶（日本JSR、东京应化）、电子特气（美国Air Products）。
功能：光刻胶用于图形转移，特气用于刻蚀工艺。
国产进展：南大光电（ArF光刻胶）、华特气体（电子特气）实现突破。
凯美特气国内唯一通过ASML认证的光刻气供应商，纯度达99.9999%
光学系统茂莱光学DUV物镜系统进入上海微电子供应链，精度达纳米级
奥普光电长春光机所控股，参与EUV物镜研发，定位精度0.8nm
精密部件蓝英装备全球唯一为ASML提供EUV清洗设备，国产化率超80%
富创精密量产7nm设备零部件，覆盖真空腔体、气体传输系统
光刻胶南大光电国内唯一量产ArF光刻胶，通过中芯国际验证
晶瑞电材KrF光刻胶量产，ArF进入小批量供货
电子特气华特气体覆盖Kr/Ne、F2/Ar等混合气体，进入台积电供应链
石英材料菲利华高纯石英玻璃基板供应商，适配DUV/EUV光掩模
来源：釆衣若英
