摘要：干膜（Dry Film）是一种在半导体封装、电路板制造（PCB）、以及光刻加工中常用的感光性材料，属于光刻胶的一种，但和常见的液态光刻胶不同，它是以薄膜的形式存在的。

什么是干膜？

干膜（Dry Film）是一种在半导体封装、电路板制造（PCB）、以及光刻加工中常用的感光性材料，属于光刻胶的一种，但和常见的液态光刻胶不同，它是以薄膜的形式存在的。

干膜是预先涂布了感光光刻胶的塑料膜，在使用时通过热压覆膜（Laminate）的方式贴附在基板表面，经紫外光（UV）曝光显影后形成图形，然后进入蚀刻或电镀等后续工艺。

干膜的结构组成？

一般是三层：

1，PET保护膜（最外层，剥离前保护作用）

2，感光层（中间，紫外曝光后发生交联反应）

3，粘接层（与基板粘合）

干膜曝光的基本原理？

光化学反应机制：紫外光激活光引发剂→产生游离基→引发单体聚合交联→形成不溶于稀碱的大分子结构

影响干膜曝光成像质量的因素？

1，干膜本身的性能：分辨率，粘附力，感光灵敏度，膜厚均匀性等

2，光源的选择

3，曝光量的控制

4，基板的质量

等等

怎么选择光源？

每种干膜都有特定的光谱吸收曲线，而每种光源也具有独特的光谱发射分布。若两者的峰值重合或大部分重叠，则曝光效果最佳。

国产干膜吸收区主要集中在 310–440 nm，匹配的理想光源一般为：

高压汞灯（High-pressure mercury lamp），碘镓灯（Iodine-gallium lamp）

来源：Wen雯吖一点号