摘要:直写光刻也称无掩模光刻,是指计算机控制的高精度光束聚焦投影至涂覆有感光材料的基材表面上,无需掩模直接进行扫描曝光。近年来,全球经济增速放缓,下游行业承压发展,直写光刻设备市场规模呈波动态势,2024年随着下游行业明显回暖,直写光刻设备市场规模恢复增长态势,同比
报告导读:
直写光刻也称无掩模光刻,是指计算机控制的高精度光束聚焦投影至涂覆有感光材料的基材表面上,无需掩模直接进行扫描曝光。近年来,全球经济增速放缓,下游行业承压发展,直写光刻设备市场规模呈波动态势,2024年随着下游行业明显回暖,直写光刻设备市场规模恢复增长态势,同比增长12%达15.7亿美元。未来随着直写光刻技术的优势逐步显现及其应用边界的不断扩展,市场规模将进一步扩张。从直写光刻设备产业链来看,上游为设备生产所需的原材料、模块及组件,包括光源、图形生成模块、运动平台、光路组件及自动控制组件等。中游为直写光刻设备供应商。下游为直写光刻设备应用领域,涉及印制电路板制造、IC载板制造、显示面板等。这些产品应用领域极为广泛,涵盖消费电子、数据中心、汽车电子、低空经济、平板显示器等。PCB为直写光刻设备最大应用领域,2024年占比41.1%。其次为掩膜版领域,占比36.6%。其他领域占比相对较小。竞争企业方面,在PCB直接成像设备领域,由于设备由多个系统组成,设备生产工艺复杂,因此技术门槛高,目前行业主要参与者包括以色列Orbotech、日本的ORC、ADTEC、SCREEN以及国内的芯碁微装、江苏影速、天津芯硕、中山新诺、大族激光等企业。而在,泛半导体直写光刻设备领域,国内发展起步较晚,主要市场份额为国外厂商所占据。竞争者包括瑞典Mycronic、德国Heidelberg、日本SCREEN、美国KLA-Tencor、美国Rudolph及国内的上海微电子、天津芯硕、中山新诺、江苏影速、芯碁微装等。目前,我国直写光刻设备产业已经实现了产业化发展,以芯碁微装、天津芯硕为代表的直写光刻设备厂商呈现出快速发展态势,部分产品已经能够与Orbotech等国外行业内领先厂商参与市场竞争。但是,在直写光刻设备上游关键零部件领域,目前我国厂商仍主要采取进口方式,国产化程度较低,不利于行业长远发展。
基于此,依托智研咨询旗下直写光刻设备行业研究团队深厚的市场洞察力,并结合多年调研数据与一线实战需求,智研咨询推出《2025-2031年中国直写光刻设备行业市场运行格局及投资机会研判报告》。本报告立足直写光刻设备新视角,聚焦行业核心议题——变化趋势(怎么变)、用户需求(要什么)、投放选择(投向哪)、运营方法(如何投)及实践案例(看一看),期待携手行业伙伴,共谋行业发展新格局、新机遇,推动直写光刻设备行业发展。
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工作原理:其主要原理是通过计算机将所需的光刻图案通过软件输入到数字微镜器件(DMD)芯片中,根据图像中的黑白像素的分布来改变DMD芯片微镜的转角,并通过准直光源照射到DMD芯片上形成与所需图形一致的光图像投射到基片表面,通过控制样品台的移动实现大面积的微结构制备。
市场规模:近年来,全球经济增速放缓,下游行业承压发展,直写光刻设备市场规模呈波动态势,2024年随着下游行业明显回暖,直写光刻设备市场规模恢复增长态势,同比增长12%达15.7亿美元。未来随着直写光刻技术的优势逐步显现及其应用边界的不断扩展,市场规模将进一步扩张。
竞争格局:在PCB直接成像设备领域,目前行业主要参与者包括以色列Orbotech、日本的ORC、ADTEC、SCREEN以及国内的芯碁微装、江苏影速、天津芯硕、中山新诺、大族激光等企业。而在,泛半导体直写光刻设备领域,国内发展起步较晚,主要市场份额为国外厂商所占据。竞争者包括瑞典Mycronic、德国Heidelberg、日本SCREEN、美国KLA-Tencor、美国Rudolph及国内的上海微电子、天津芯硕、中山新诺、江苏影速、芯碁微装等。
产业链:上游为设备生产所需的原材料、模块及组件,包括光源、图形生成模块、运动平台、光路组件及自动控制组件等。中游为直写光刻设备供应商。下游为直写光刻设备应用领域,涉及印制电路板制造、IC载板制造、显示面板等。这些产品应用领域极为广泛,涵盖消费电子、汽车电子、低空经济、平板显示器等。
应用格局:直写光刻设备是PCB、掩膜版、IC载板等产品生产的重要设备,其中PCB为直写光刻设备最大应用领域,2024年占比41.1%。其次为掩膜版领域,占比36.6%。其他领域占比相对较小。
发展趋势:直接成像设备及直写光刻设备的技术发展由下游PCB、泛半导体器件等产品的升级趋势驱动。总体而言,目前直写光刻设备的技术发展趋势为:实现更精细的线宽及分辨率、提升产品生产良率、实现最小线宽和生产效率的平衡和优化。
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来源:智研咨询一点号