摘要：光刻机被誉为“半导体设备皇冠上的明珠”，其技术复杂度与战略价值远超普通工业设备。全球市场规模超257亿美元，但国产化率不足3%，ASML垄断82.1%市场份额。中国光刻机产业链正经历“单点突破→系统重构”的质变，以下从上游核心部件、中游整机制造、下游应用生态三

光刻机被誉为“半导体设备皇冠上的明珠”，其技术复杂度与战略价值远超普通工业设备。全球市场规模超257亿美元，但国产化率不足3%，ASML垄断82.1%市场份额。中国光刻机产业链正经历“单点突破→系统重构”的质变，以下从上游核心部件、中游整机制造、下游应用生态三维度展开分析。

光刻机产业链的竞争，本质是工业体系综合实力的较量。从福晶科技的激光晶体到上海微电子的整机集成，从华卓精科的双工作台到中芯国际的工艺验证，中国正以“链式突破”模式向全球半导体价值链顶端攀登。未来五年，随着EUV光源、双工作台、ArF光刻胶等核心技术陆续攻克，中国光刻机产业链有望从“替代者”蜕变为“规则制定者”。

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六、重要提醒

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来源：走进科技生活