摘要：光刻机，利用极紫外光将掩模版上的电路图案投影到硅片上，制造出超精密芯片。其中，线性导轨轴承至关重要，它要保证工作台在纳米精度下平稳移动。一旦定位出现偏差，电路图案就会扭曲，芯片良品率直线下降，因定位偏差导致的废品率最高可达 30%。

在光刻机内部，纳米级震动正步步紧逼，而它，就是阻止 5 亿美元设备瘫痪的最后防线。这究竟是怎么回事？

光刻机，利用极紫外光将掩模版上的电路图案投影到硅片上，制造出超精密芯片。其中，线性导轨轴承至关重要，它要保证工作台在纳米精度下平稳移动。一旦定位出现偏差，电路图案就会扭曲，芯片良品率直线下降，因定位偏差导致的废品率最高可达 30%。

纳米级震动对光刻机的破坏不容小觑。在光路系统中，细微震动会使反射镜和透镜位移，改变光线传播方向，哪怕是极微小的入射角变化，都会造成芯片电路图案畸变，严重影响性能。

对工作台而言，在 7 纳米及以下先进制程中，纳米级震动引发的抖动与偏移，会降低电路图案叠加精度，致使芯片短路或断路。同时，持续的震动还让光刻机各零部件承受额外应力，线性导轨轴承的滚珠与滚道加速磨损，导致轴承精度下降，缩短设备寿命。

面对挑战，行业积极应对。通过优化线性导轨轴承设计，增强其刚度和阻尼特性，降低震动传递；采用空气弹簧、磁悬浮等先进隔振技术，隔离外界干扰；搭建实时监测与反馈控制系统，对工作台运动进行补偿，确保定位精准。

小小线性导轨轴承，肩负着光刻机稳定运行的重任。攻克纳米级震动难题，不仅是为了守护昂贵的设备，更是推动半导体制造技术迈向新高度的关键一步。

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来源：小郑讲科学