2024全球半导体设备商TOP10:中国企业冲到第六,收入超过200亿元

B站影视 电影资讯 2025-04-04 12:00 1

摘要:半导体设备是指用于制造半导体芯片(集成电路)的各种设备和工具,是半导体产业的先导、基础产业,主要包括光刻机、刻蚀设备、薄膜沉积设备、真空镀膜设备、清洗设备、离子注入设备、涂胶显影设备、CMP设备、热处理设备等。

半导体设备是指用于制造半导体芯片(集成电路)的各种设备和工具,是半导体产业的先导、基础产业,主要包括光刻机、刻蚀设备、薄膜沉积设备、真空镀膜设备、清洗设备、离子注入设备、涂胶显影设备、CMP设备、热处理设备等。

据国际半导体产业协会(SEMI)数据,去年半导体设备市场总规模投资达到1090亿美元,其中前道设备投资占比高达90%。预计今年将再创新高,同比增长16%至超过1270亿美元。

CINNO • IC Research统计了2024年全球半导体设备商TOP10,合计半导体业务营收同比增长约10%,超过1100亿美元。没有“新面孔”出现,日本企业占据4席,美国3家,荷兰2家,中国1家。

排名6-10位的依次是北方华创(NAURA)、日本迪恩士(Screen,全球领先的晶圆切割设备商)、日本爱德万(Advantest,全球知名的测试设备制造厂商)、荷兰ASM国际(ASMI,主要提供半导体前道用沉积设备)、日本迪斯科(Disco,全球领先的晶圆切割设备商)。

北方华创2023年首次进入前十,2024年排名上升两位至第六。这家中国半导体设备龙头,主要生产刻蚀、沉积、清洗等主要半导体制造设备。去年预计实现营收276亿-317.80亿元,同比增长25.00%-43.93%。净利润51.7亿-59.5亿元,同比增长32.60%至52.60%。

电容耦合等离子体刻蚀设备(CCP)、等离子体增强化学气相沉积设备(PECVD)、原子层沉积立式炉、堆叠式清洗机等多款新产品,进入客户生产线并实现批量销售。

北方华创还在积极拓展半导体制造装备版图,在上海国际半导体展览会(SEMICON China 2025)上,发布了首款离子注入机Sirius MC 313,正式进军离子注入设备市场。同时推出首款12英寸电镀设备(ECP)——Ausip T830。据悉,这款设备专为硅通孔(TSV)铜填充设计,突破30多项关键技术,主要应用于2.5D/3D先进封装领域。

值得一提的是,近年来我国半导体产业的自主可控进程明显加速,国产替代已成为行业发展的核心主线。除了北方华创,中国还涌现出中微公司、盛美上海、至纯科技、长川科技、富创精密、芯源微等相关上市企业。

前五名没有发生变化,半导体业务营收合计近900亿美元,约占比TOP10的85%。荷兰阿斯麦(ASML)、美国应用材料(AMAT,被誉为“半导体设备超市”)、美国泛林(LAM,主营半导体制造用刻蚀设备、薄膜沉积设备以及清洗等设备)、日本东京电子(TEL,主要生产涂胶显像设备、热处理设备、干法刻蚀设备、化学气相沉积设备、湿法清洗设备及测试设备)、美国科磊(KLA,半导体工艺制程检测量测设备龙头)。

公开资料显示:阿斯麦是由飞利浦与ASM(先进半导体材料公司)于1984年合资成立的,总部设在荷兰埃因霍温市。作为全球第一大光刻机设备商,同时也是全球唯一可提供7nm及以下先进制程的EUV光刻机设备商,专门向台积电、三星、中芯国际等晶圆代工厂商提供产品。

去年,阿斯麦实现营收282.63亿欧元(约合人民币2255亿元),同比增长2.5%,创下历史新高;净利润为75.72亿欧元,同比下滑3.4%;毛利率高达51.3%,同比持平。其中,中国大陆是其第一大市场,贡献了超过40%的收入(101.95亿欧元)。

按照光源类型,光刻机分为I-line光刻机、KrF光刻机、ArF光刻机(常被称为DUV光刻机)、ArFi光刻机(即ArF浸没式光刻机)、EUV光刻机。阿斯麦去年一共卖出418台光刻机,包括44台EUV光刻机、374台DUV光刻机。

来源:新潮商评论

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