汇成真空涨1.96%，成交额4.39亿元，近5日主力净流入-1.09亿
招股说明书：镀膜设备作为芯片制造过程中核心的三大设备（光刻、刻蚀和镀膜）之一，对设备的可靠性、稳定性和一致性提出了极高的要求。公司产品主要为 PVD 真空镀膜设备。根据公司官网，公司原子层沉积(ALD)技术是将物质以单原子膜形式过循环反应逐层沉积在基底表面，形
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汇成真空涨0.43%，成交额5.19亿元，近5日主力净流入-1.42亿
招股说明书：镀膜设备作为芯片制造过程中核心的三大设备（光刻、刻蚀和镀膜）之一，对设备的可靠性、稳定性和一致性提出了极高的要求。公司产品主要为 PVD 真空镀膜设备。根据公司官网，公司原子层沉积(ALD)技术是将物质以单原子膜形式过循环反应逐层沉积在基底表面，形
微导纳米跌1.61%，成交额2.39亿元，近5日主力净流入-371.91万
根据2025年1月28日公告：公司项目芯链融创由中关村芯链集成电路制造产业联盟牵头，联合包括公司在内的25家集成电路产业链企业出资设立，旨在打造集成电路设备、零部件和材料产业链融合平台。芯链融创（持股50%）与中芯国际、北京亦庄（分别持股25%）共同投资于北方
【半导体设备】10家半导体薄膜沉积设备企业竞争力解析
薄膜沉积技术是一种关键的半导体前道工艺，它涉及利用外部能量激活各类化学反应源，随后使生成的原子、离子或活性反应基团在特定的衬底表面上吸附、聚结，进而构建出具有不同介质特性的薄膜。薄膜沉积设备是实现这一工艺的核心装备。
微导纳米跌1.38%，成交额3.70亿元，今日主力净流入168.82万
根据2025年1月28日公告：公司项目芯链融创由中关村芯链集成电路制造产业联盟牵头，联合包括公司在内的25家集成电路产业链企业出资设立，旨在打造集成电路设备、零部件和材料产业链融合平台。芯链融创（持股50%）与中芯国际、北京亦庄（分别持股25%）共同投资于北方
汇成真空涨2.25%，成交额5.11亿元，今日主力净流入494.99万
招股说明书：镀膜设备作为芯片制造过程中核心的三大设备（光刻、刻蚀和镀膜）之一，对设备的可靠性、稳定性和一致性提出了极高的要求。公司产品主要为 PVD 真空镀膜设备。根据公司官网，公司原子层沉积(ALD)技术是将物质以单原子膜形式过循环反应逐层沉积在基底表面，形
汇成真空涨3.75%，成交额6.16亿元，今日主力净流入2982.43万
招股说明书：镀膜设备作为芯片制造过程中核心的三大设备（光刻、刻蚀和镀膜）之一，对设备的可靠性、稳定性和一致性提出了极高的要求。公司产品主要为 PVD 真空镀膜设备。根据公司官网，公司原子层沉积(ALD)技术是将物质以单原子膜形式过循环反应逐层沉积在基底表面，形
微导纳米涨2.78%，成交额3.44亿元，后市是否有机会？
根据2025年1月28日公告：公司项目芯链融创由中关村芯链集成电路制造产业联盟牵头，联合包括公司在内的25家集成电路产业链企业出资设立，旨在打造集成电路设备、零部件和材料产业链融合平台。芯链融创（持股50%）与中芯国际、北京亦庄（分别持股25%）共同投资于北方
汇成真空涨0.86%，成交额2.98亿元，后市是否有机会？
招股说明书：镀膜设备作为芯片制造过程中核心的三大设备（光刻、刻蚀和镀膜）之一，对设备的可靠性、稳定性和一致性提出了极高的要求。公司产品主要为 PVD 真空镀膜设备。根据公司官网，公司原子层沉积(ALD)技术是将物质以单原子膜形式过循环反应逐层沉积在基底表面，形
国产刻蚀设备迎来新突破！中微公司宣布12英寸全球首台机交付
近日，国内半导体设备龙头企业中微公司宣布其最新12英寸金属刻蚀设备Primo Menova全球首台机成功付运，这一消息的深层意义，远不止于又一款国产高端装备进入市场。它如同一支锐利的矛头，其背后所揭示的，是一家中国顶尖设备企业正以惊人的研发加速度和平台化战略，
刻蚀 ald 刻蚀设备 primo primomenova 2025-06-24 19:49 10
汇成真空跌0.69%，成交额3.94亿元，今日主力净流入-1752.53万
招股说明书：镀膜设备作为芯片制造过程中核心的三大设备（光刻、刻蚀和镀膜）之一，对设备的可靠性、稳定性和一致性提出了极高的要求。公司产品主要为 PVD 真空镀膜设备。根据公司官网，公司原子层沉积(ALD)技术是将物质以单原子膜形式过循环反应逐层沉积在基底表面，形
国产刻蚀设备又迎里程碑！
今日，国内半导体刻蚀设备龙头中微公司宣布，其刻蚀设备系列喜迎又一里程碑：Primo Menova 12寸金属刻蚀设备全球首台机顺利付运国内一家重要集成电路研发设计及制造服务商。
汇成真空涨3.91%，成交额3.73亿元，近3日主力净流入2484.13万
招股说明书：镀膜设备作为芯片制造过程中核心的三大设备（光刻、刻蚀和镀膜）之一，对设备的可靠性、稳定性和一致性提出了极高的要求。公司产品主要为 PVD 真空镀膜设备。根据公司官网，公司原子层沉积(ALD)技术是将物质以单原子膜形式过循环反应逐层沉积在基底表面，形
征文通知 | APASL STC 2025 东京会议
亚太肝脏研究协会（APASL）STC 2025东京会议将于2025 年10月2日至3日在东京Toshi中心酒店举行，我们对您的支持表示衷心感谢。
单原子催化剂的优势与潜力
兼具均相与多相催化的优势SACs结合了均相催化剂的高活性/选择性和多相催化剂的稳定性/易分离性，成为沟通两类催化的桥梁。例如，Pt/Al₂O₃SACs在硅氢加成反应中不仅活性高，还能通过简单过滤回收并重复使用，解决了均相催化剂回收难题。4、可调的电子结构与载体
涨幅超2000%？这9家公司一季度业绩大爆发，背后藏着什么信号
自从AI大模型、智能终端、边缘计算开始卷性能之后，全球对存储产品的需求就进入了“又大又快”的新阶段。说白了，过去存点照片，现在得存大模型权重，存储芯片的性能要求不一样了。
新凯来高科技产品解析：国产半导体设备的突围之路
深圳新凯来技术有限公司作为中国半导体设备领域的"新锐国家队"，在2025年SEMICON China展会上首次高调亮相，推出覆盖半导体制造全流程的31款设备，其中包含28nm浸润式DUV光刻机和5nm DUA光刻技术等突破性产品。新凯来的设备虽不能完全解决高端
唯一享受半导体估值，最有机会成为半导体公司的光伏设备龙头
前阵子新能源正前方在追踪光伏设备板块2024年和2025业绩的时候提到了板块之间不同企业天差地别的估值差异，其中市场给捷佳伟创的估值最低，也就比此前一直人嫌狗弃的四大行差不多（话说回来，可别嫌弃它们，过去两年银行一直处于牛市走势，今年更是各种创新高），相反，市
政策红利爆发！5大板块+13只龙头股抢占万亿转型风口
工信部等三部门联合印发《电子信息制造业数字化转型实施方案》，明确2027年关键工序数控化率超85%，培育100个场景解决方案及百家专业服务商。政策直接催化算力基建、工业互联网、半导体设备等核心领域，万亿级市场加速开启。本文结合政策目标与产业链逻辑，深度梳理受益
中国硬科技突围战：三大领域谁将引领下一代产业革命？
以华为海思为代表的芯片设计企业，已建立从EDA工具到制造工艺的技术闭环。典型突破：长江存储成功量产128层3D NAND闪存，国内存储芯片自给率达35%+。