摘要：我们都知道光刻机的重要性，但由于其制造的复杂性，目前全球光刻机市场基本被荷兰ASML垄断。不过，全球多地在研发其他光刻技术路线，希望能打破ASML垄断。

我们都知道光刻机的重要性，但由于其制造的复杂性，目前全球光刻机市场基本被荷兰ASML垄断。不过，全球多地在研发其他光刻技术路线，希望能打破ASML垄断。

像日本佳能研发了纳米压印光刻技术，美英研发电子束光刻技术，连俄罗斯都研发X射线光刻技术。这些方面我们貌似都没有进展，但最近消息传来，陆续实现突破了！

第一个消息是，近日国内企业璞璘科技对外宣布，自主设计研发的首台PL-SR系列喷墨步进式纳米压印设备顺利通过验收，并且已交付至国内特色工艺客户产线使用。

要知道，这方面技术的相关消息，一直是日本佳能，10年前就开始研发，成品机已应用到日本铠侠NAND闪存生产线，最先进设备已达14nm线宽，对应传统5nm。

而璞璘科技的设备更进步，实现了线宽小于10nm，不仅打破佳能垄断还实现了超越。

第二个消息是，上海芯上微装近日公布举办了第500台步进光刻机交付仪式。该公司是国内步进光刻机的领军企业，其拳头产品先进封装光刻机获得了市场高度认可。

据了解该公司今年2月份才成立，目前全球市占率达到35%，国内市占率达到90%。

有消息显示，该公司之所以能这么快完成第500台步进光刻机交付，可能是因为从国内光刻机厂商上海微电子分拆出来的，但也标志着我国高端半导体装备迈上新台阶。

如果以上两个消息，ASML看了以后还能淡然处之，毕竟应用范围有所不同，还对它产生不了多大影响。那么，接下来的第三个消息就更劲爆了，ASML恐怕也没料到。

那就是，我国首台电子束光刻机诞生了！之前，英国就推出了一种电子束光刻机，采用电子束直接在硅片上进行光刻，无需传统光刻使用的光掩膜版，精度最高达1nm。

这次浙江大学推出的电子束光刻机比英国那个更进步，精度达到0.6nm，线宽8nm。

据了解，这是全国首台国产商业电子束光刻机，目前已经进入应用测试。浙江大学研发团队将其命名为“羲之”，取名自书法家王羲之，就是用电子束在芯片上刻写电路。

重点是，该光刻机能用于制造量子芯片，标志着国内量子芯片研发有了“中国刻刀”。

该电子束光刻机的优势是精度非常高，能够灵活修改设计无需掩膜版，如同用纳米级毛笔在芯片上精准作画，特别适合芯片研发初期反复调试，以及高端芯片前期科研。

电子束光刻因为直接在晶圆表面雕刻电器图案，所以能够实现远超传统光刻的精度。

相比之下，国内这台电子束光刻机的性能已经超过了ASML所生产的传统光刻机，不过它也有明显的缺点，那就是效率低下、功率不足，难以实现芯片的大规模量产。

但电子束光刻机不仅能用于量子芯片，还能采用新型材料芯片，对于先进芯片研发有着到头重要作用。这类设备也受制美西方出口管制，所以也是打破了国外封锁垄断。

从以上三消息消息能够看出，我们国内光刻机的研发不仅限于传统光刻机，而是多点发力、全面开花。之前我们主要关注传统光刻机的突破，认为国产光刻机最在短板。

并且其他光刻技术路线也仅看到国外在研发，殊不知我们各方面都有布局，各个技术路线都在默默研发和攻坚，如今纳米压印、电子束光刻、先进封装光刻机都有进步。

传统光刻机方面也不例外，据说浸润式DUV正在攻坚，EUV相关技术也陆续突破。

相信我们的举国体制，相信我们国人的聪明才智，只要我们下定决心突破，就没有我们实现不了的。尽管传统光刻机突破更难，但我们已经在行动，相信必然实现突破。

对此，有外媒直接表示，大陆光刻机简直太快了，似乎已经到了井喷的时刻，荷兰ASML恐怕要坐不住了，随着大陆各种光刻机陆续实现国产，对外依赖也就越来越少了。

来源：科技强哥说一点号