摘要：2025年8月5日，杭州一家叫璞璘科技的公司把一台新机器交给了国内客户。这台PL-SR型纳米压印光刻机能做出比头发丝还细十万倍的芯片线路，线宽不到10纳米。他们说这是咱们国家自己造的第一台能用在半导体生产的同类机器，打破了日本佳能过去一直垄断的市场。

2025年8月5日，杭州一家叫璞璘科技的公司把一台新机器交给了国内客户。这台PL-SR型纳米压印光刻机能做出比头发丝还细十万倍的芯片线路，线宽不到10纳米。他们说这是咱们国家自己造的第一台能用在半导体生产的同类机器，打破了日本佳能过去一直垄断的市场。

这玩意儿的工作原理跟传统光刻不一样。以前大家用EUV光刻机得靠激光照出图案，花钱多不说，还得花大钱维护机器。璞璘这台设备则是把预先做好的模板直接按在晶圆上，像盖章一样印出电路。他们解决了好几个难题，比如涂胶时要控制薄膜厚度到10纳米以内，还得让模板和硅片完美贴合不留残胶。

公司团队里大部分都是硕士博士，领头的还和一位叫Stephen Chow的外国院士合作。人家用了五年时间才把实验室的东西变成能用的量产设备。现在这机器能快速换模板生产不同芯片，适合做存储芯片、AR眼镜里的显示芯片这些。

现在国内做存储芯片的厂商，比如长江存储，正急需这种设备。因为荷兰的ASML公司被美国卡着，没法卖EUV光刻机过来。璞璘这台机器正好能用在3D NAND这类重复图案多的芯片生产上，虽然速度比不上EUV，但成本低了一大截。

不过也有短板。要是做智能手机处理器这类复杂的逻辑芯片，这机器就不太行了。因为每次改设计都要换模板，生产速度上不去。不过他们说下一步目标是把对准精度提高到10纳米以内，这样说不定能打开更多市场。

国外厂商反应挺有意思。佳能那边之前垄断着这个市场，现在听说咱这机器参数还更好，股价都跌了。有报道称日本那边最近开了好几次紧急会议，讨论怎么应对。

这台机器用了好多新技术。比如涂胶不是均匀涂，而是根据需要动态调节用量，减少浪费。模板表面处理技术也厉害，能让石英做的模板和硅片之间不留空隙，印出来的东西特别清晰。

数据方面，璞璘自己说他们的设备比日本同类产品残胶控制更好，深宽比做到7比1。有报道引用第三方测试，单片制造成本能比EUV方案低三分之二。虽然这些数字还需要更多实测验证，但至少给出了个初步参考。

现在有消息说国内几家做功率半导体的企业已经下单，准备用这台机器生产车用芯片。AR行业的厂商也在谈合作，想用压印技术来做微型显示屏。这些都是因为传统光刻在这些领域要么成本太高，要么精度不够。

研发过程中遇到的问题也不少。比如怎么让模板和晶圆在真空外贴合，怎么精确控制温度压力。团队里有专门做材料的博士团队，光专利就申请了一百多项。有媒体报道说他们光做试验就换了几十种涂胶配方。

未来计划里，璞璘准备先在存储和特色工艺站稳脚跟，等赚到钱再投入更复杂的逻辑芯片领域。公司负责人说他们现在先把路铺开，等技术积累够了，再慢慢挑战EUV的垄断地位。

现在这台机器已经正式投入使用，后续效果还需要看实际生产情况。反正从参数上看，至少在某些关键指标上已经超过了之前进口设备。至于能不能真的改变全球芯片格局，只能靠时间来验证了。

来源：小農剪影一点号