摘要：中微公司不仅是大陆第一家进入台积电5nm产线的供应商，在刻蚀设备领域还具备和设备一哥北方华创掰手腕的底气。

工欲善其事，必先利其器。

具体到芯片世界，一个再伟大的芯片设计构想，没有设备做支撑，最终都只能湮没于纸面。

其中，在刻蚀设备环节，中微公司已经名声大噪。

中微公司不仅是大陆第一家进入台积电5nm产线的供应商，在刻蚀设备领域还具备和设备一哥北方华创掰手腕的底气。

2023-2024年，中微公司的刻蚀设备营收从47.03亿元增长到72.77亿元，而北方华创相应业务营收近60亿元增长到约80亿元，中微公司在增速上更胜一筹。

这一成绩，离不开中微公司的业务专注性。

我们都知道，北方华创之所以能跻身全球前六大半导体设备厂商，主要功劳在“平台化策略”，像刻蚀设备、薄膜沉积设备、清洗机等，北方华创均已打通。

2025年3月，北方华创拟收购芯源微，核心目的之一就是补足涂胶显影设备产品线。

而中微公司，2024年刻蚀设备的营收占比超80%，业务更加垂直。

在整个半导体设备行业，刻蚀设备的地位并不容小觑。

相对于后道设备（封装、测试），前道设备（制造）历来都是资本开支的大头，占比在80%以上，而刻蚀设备又是前道设备中的重中之重，在其中的占比达22%，仅次于光刻机（23%）。

也正因此，伴随近几年全球晶圆厂设备投资加大，中微公司的业绩增长弹性十足。

2020年-2024年，中微公司的营收从22.73亿元增长到90.65亿元，翻了4倍；净利润从4.92亿元增长至16.16亿元，年均复合增速达34.62%。

2025年以来，公司经营业绩持续上扬，其中一季度营收为21.73亿元，同比增长35.4%，净利润为3.13亿元，同比增长25.67%。

当然了，能真正实现业绩高增长，还得靠中微公司的产品实力。

从65纳米到5纳米的生产工艺，中微公司的刻蚀设备均可覆盖；全国范围内95%以上的刻蚀需求，中微公司均可满足。

并且，中微公司的研发实力也可谓高深莫测，独创了双台机技术，输出量更高、加工成本更低。

目前，中微公司CCP双台机有近600个反应台在国际最先进的逻辑产线上生产；ICP双台机反应台之间的刻蚀精度可控制在每分钟0.02纳米，并在氧化硅、氮化硅和多晶硅等薄膜刻蚀工艺上得到应用。

截至2024年底，中微公司的CCP刻蚀机累计装机量超过4000反应台，近10年平均增速高于30%；ICP刻蚀机累计安装数达到1025个反应台，近4年平均增速超过100%。

而从中微公司近年的发展路径来看，其显然并不满足于此。

第一，开启平台化布局。

在产品做到精的基础上，中微公司开始拓宽产品品类。像薄膜沉积设备、MOCVD设备、VOC设备，中微公司均已经涉足。

其中，在MOCVD设备领域，中微公司已经成为氮化镓基LED市场份额最大的MOCVD设备供应商。

在薄膜沉积设备领域，公司产品更是上马没多久就获得订单，2024年成功实现首台销售。

2024年，中微公司成立超微公司，重点开发电子束量检测设备，并于2025年再次高调增资，量检测设备成为公司又一大核心布局方向。

据悉，2016年-2023年，量检测设备整体维持15%的平均增速，现在已经是光刻机、刻蚀设备、薄膜沉积设备之外的第四大设备门类，成本占比高达13%。

有了新产品的加持，中微公司的订单加速放量。

2025年第一季度末，中微公司的合同负债高达30.67亿元，创近年新高。也就是说，下游客户与公司签订合同提前支付的预付款增加，暗示中微公司在手订单旺盛。

第二，提高研发效率。

整体上，半导体设备行业呈现“强者恒强”的格局，多年来头部厂商永远都是那么几家。

主要原因离不开客户验证壁垒。

对小公司来说，能够得到大客户验证的机会非常难得，而得不到验证测试就很难发现自身设备的不足，产品质量提不上去就更拿不下客户，形成恶性循环。

而中微公司，已经拓展台积电、中芯国际、长江存储等知名客户，并由此积累了大量的芯片生产线量产数据和客户验证数据。

再加上持续不断的研发投入，中微公司研发效率提升明显。过去，公司研发出一款新设备需要3-5年，现在已经可以压缩到2年甚至更低。

具体来看，2020年-2024年，中微公司的研发投入从3.31亿元一路攀升到14.18亿元，研发费用率更是在2024年达到15%以上，远超盛美上海（12.98%）、北方华创（12.3%）、华海清科（11.22%）等同行。

而未来，中微公司的发展也持续可观。

首先，先进制程增加刻蚀需求。

先进制程演绎过程中，除了性能提升，集成电路对芯片的刻蚀需求也水涨船高，相应地会推动刻蚀设备增加。

像14nm集成电路，其生产所需刻蚀工序还仅为64次，到了7nm阶段则为140次，5nm阶段更是冲到160次。

另外，3D NAND芯片正在向更高的堆叠层数开发，现下全球先进技术已经突破300层。而在层数增高的过程中，刻蚀、薄膜沉积的操作步骤也会相应增加，从而加大对设备的需求。

目前，中微公司已经研制出超高深宽比掩膜（≥40:1）ICP 刻蚀设备和超高深宽比介质刻蚀(≥60:1)CCP刻蚀设备，有望受益于需求放量。

其次，国产替代势不可挡。

需求端，我国是全球最大的前道设备消费市场，2023年的全球市占率高达35%。

但供给端，刻蚀设备的国产化率不足20%，薄膜沉积设备的国产化率不足30%，国产替代的缺口很大。

中微公司作为刻蚀设备的佼佼者、薄膜沉积设备的后起之秀，有望迎接国产替代浪潮。

最后，总结一下。

下游需求扩张，叠加自身产品实力，中微公司近年的业绩持续增长。同时，公司还在丰富产品品类、加大研发，以谋求更强的竞争地位。

在如今国产替代大趋势下，相信中微公司仍具备更高的发展动能。

来源：飞鲸投研一点号