摘要：11月18日，A股光刻机、光刻胶概念盘中异动拉升，同益股份直线拉升封死20cm涨停，凯美特气盘中触及涨停，张江高科、茂莱光学、新莱应材、波长光电、海立股份等个股纷纷跟涨。

同益股份20cm涨停，凯美特气触及涨停，光刻机与光刻胶概念股的集体异动勾勒出半导体产业链国产替代的加速态势。

11月18日，A股光刻机、光刻胶概念盘中异动拉升，同益股份直线拉升封死20cm涨停，凯美特气盘中触及涨停，张江高科、茂莱光学、新莱应材、波长光电、海立股份等个股纷纷跟涨。

这一异动发生在沪指逼近4000点关口的市场环境中。光刻胶概念指数今年以来已上涨约50%，远远跑赢大盘。

同益股份作为当日涨幅最大的个股，直接封上涨停板。同益股份是一家在半导体材料领域有所布局的企业，其业务与光刻胶等电子化学品密切相关。

凯美特气作为国内唯一通过ASML子公司Cymer认证的光刻气供应商，其产品纯度达到了惊人的99.9999%，是支撑KrF/ArF光刻机运行的关键。

今年以来，凯美特气股价表现强劲，年内累计涨幅超过300%。

张江高科作为参股国产光刻机龙头企业上海微电子的上市公司，一直备受市场关注。上海微电子的28nm光刻机已经进入量产验证阶段，2025年计划交付超10台。

茂莱光学是精密光学综合解决方案提供商，为光刻机光学系统提供用于匀光、中继照明块的光学器件、投影物镜等。公司2025年一季度订单增长120%，净利润增长288.7%。

光刻机与光刻胶概念的异动拉升，背后是半导体产业链国产替代的加速推进。

北京大学彭海琳教授团队通过冷冻电子断层扫描技术，首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三维结构，这一突破指导开发出可显著减少光刻缺陷的产业化方案。

同时，我国首个EUV光刻胶标准——《极紫外光刻胶测试方法》作为拟立项标准开始公示，填补了国内在该领域的标准空白。

光刻是整个集成电路制造过程中耗时最长、难度最大的工艺，耗时占IC制造50%左右，成本约占IC生产成本的1/3。光刻胶是光刻过程最重要的耗材，光刻胶的质量对光刻工艺有着重要影响。

目前，全球光刻胶供给高度集中，海外龙头已实现高端制程量产，而我国光刻胶起步较晚，目前以中低端产品为主，高端领域正在逐步突破过程中，国产替代正在持续进行。

在光刻胶领域，南大光电是国内佼佼者，是唯一实现ArF光刻胶国产量产的企业，产品通过了中芯国际的验证。2025年一季度，公司光刻胶业务收入增长了80%。

彤程新材作为国内半导体光刻胶的领先企业，G线和Ⅰ线光刻胶产品已广泛应用于国内集成电路产线，KrF光刻胶产品超过20种，稳定供应国内主要芯片制造商。并且，公司ArF光刻胶的开发已实现量产。

晶瑞电材控股子公司瑞红苏州近年销售额和利润快速增长，光刻胶品类齐全。Ⅰ线光刻胶向中芯、长鑫、华虹、晶合等国内知名半导体企业批量供货，KrF高端光刻胶部分品种已量产。

在光刻机领域，除了上海微电子外，奥普光电依托长春光机所的技术，在EUV物镜系统上有重大突破，定位精度达0.8nm，直追蔡司。其光栅编码器也应用于国产原型机，推动光学组件国产化率从0提升到15%。

根据QYResearch的统计及预测数据，预计2031年全球光刻胶市场规模将达到108.06亿美元，2025年至2031年复合增长率为6.55%。

锐观产业研究院报告显示，2024年我国光刻胶市场规模增长至114亿元以上，预计2025年光刻胶市场规模可达123亿元。半导体产业链国产化进程提速，叠加全球新一轮科技创新周期驱动，芯片板块中长期成长逻辑清晰。

国内政策持续加码半导体自主可控，制造端产能扩张及技术迭代推动上游材料需求放量，电子特气、光刻胶等核心材料国产化替代空间广阔。

随着5G、人工智能、物联网等新兴技术的发展，对芯片的需求呈爆发式增长。这就促使晶圆厂不断扩产，对光刻机和光刻胶的需求自然也水涨船高。

尽管光刻机与光刻胶概念前景广阔，但投资者也需要清醒认识到其中的风险。

技术研发风险是首要考虑因素。光刻机与光刻胶是技术壁垒极高的领域，研发过程充满不确定性。即使有政策支持，企业也可能面临研发失败的风险。

市场竞争风险不容忽视。随着行业热度提升，会有更多企业进入这一领域，市场竞争加剧。国外企业凭借技术和品牌优势，可能会对国内企业形成较大竞争压力。

概念炒作风险值得警惕。以西陇科学为例，该公司在明确表示“未生产、销售光刻胶”的情况下，曾在9个交易日内录得8个涨停，累计涨幅达116.02%，明显脱离基本面。

供应链风险也需要关注。恒坤新材在IPO过程中被披露，其部分光刻胶产品所必需的树脂尚未实现自产，仍有30%至50%需从日韩企业采购；用于KrF、i-Line及ArF光刻胶的光敏剂也几乎全部依赖进口。

公司治理风险同样不可小觑。一些半导体材料企业存在股权代持、业绩依赖政府补助、客户集中度高等问题，这些都可能成为投资的潜在隐患。

在光刻机与光刻胶概念受到市场热捧的同时，投资者需要保持清醒头脑，理性看待概念炒作。

西陇科学的案例值得深思。该公司尽管多次澄清“未生产、销售光刻胶”，但市场资金依然疯狂追捧，使其股价在短时间内翻倍。这种脱离基本面的炒作，最终难以持续。

投资者应该关注企业的实际业务进展。例如，南大光电的ArF光刻胶已通过验证并实现量产；上海微电子的28nm光刻机已进入量产验证阶段。这些实质性的技术突破，才是支撑企业长期发展的基础。

同时，需要警惕估值过高的风险。在概念炒作下，部分个股的估值明显偏离行业平均水平，存在回调风险。

分散投资是规避风险的有效策略。科技股波动较大，单只股票仓位不宜过重，可以分散配置上游材料、中游设备制造和下游应用的企业，降低整体投资风险。

随着国家大基金三期的启动，未来将助力国内晶圆厂持续扩产以及先进制程的发展，半导体材料需求有望提升，相关企业有望受益。光刻机与光刻胶作为半导体产业的核心环节，未来发展空间广阔。

技术突破正在加速国产替代进程。上海微电子的28nm光刻机进入量产验证阶段，南大光电的ArF光刻胶已通过验证并实现量产，这些突破为产业链注入了强大信心。

对于投资者而言，既要看到半导体材料国产替代的巨大空间，也要警惕概念炒作风险。长期来看，具有核心技术、能够实现量产交付并在产业链中建立稳固地位的企业，更有可能在行业发展中受益。

以上分析仅供参考，不构成投资建议。

来源：硬派研选