万华化学申请一种用于窄分布非离子表面活性剂合成的催化剂及其制备方法专利,非离子表面活性剂具有相对分子量分布窄、凝固点低等优势

B站影视 2024-12-11 13:43 2

摘要:国家知识产权局信息显示,万华化学集团股份有限公司申请一项名为“一种用于窄分布非离子表面活性剂合成的催化剂及其制备方法”的专利,公开号CN 119098177 A,申请日期为2024年8月。

金融界2024年12月11日消息,国家知识产权局信息显示,万华化学集团股份有限公司申请一项名为“一种用于窄分布非离子表面活性剂合成的催化剂及其制备方法”的专利,公开号CN 119098177 A,申请日期为2024年8月。

专利摘要显示,本发明公开了一种用于窄分布非离子表面活性剂合成的催化剂及其制备方法。本发明公开的催化剂通过采用共沉淀法制备含有镁、铝、钴、钙元素的固体,然后将其与KOH固体煅烧得到。使用本发明的催化剂制备的非离子表面活性剂具有相对分子量分布窄、凝固点低等的优势。

来源:金融界

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