国产光刻机又做出来了？听前光刻工艺工程师分析分析！

摘要：大家好，我是靖崴同学。最近又收到了很多关于国产光刻机造出来的推送，这应该是过去几年里的第N次听到这样的消息。我之前在一家大厂做过3年多的光刻工艺研发，算是光刻机公司的甲方儿子。所以想叭叭两句个人看法，为什么我们是甲方但不是爸爸而是儿子？这个在视频最后会再跟大家

大家好，我是靖崴同学。最近又收到了很多关于国产光刻机造出来的推送，这应该是过去几年里的第N次听到这样的消息。我之前在一家大厂做过3年多的光刻工艺研发，算是光刻机公司的甲方儿子。所以想叭叭两句个人看法，为什么我们是甲方但不是爸爸而是儿子？这个在视频最后会再跟大家讲。

先说结论，我觉得中国肯定是有自己的光刻机的问题，它是不是先进的光刻机以及它能不能够连续稳定的工作。

·首先，先聊一下什么是先进的光刻机，可以简单粗暴地理解为印出的图形越小光刻机就越先进。

·什么决定了光刻机能印出的图形最小有多小？这里请允许我上个公式，只要你经受过6年义务教育就可以理解，也就是这个公式。左边这坨就是光刻机能印出的最小尺寸。

·想让它变小，小学数学来啦，需要让上面这坨变小或者让下面这坨变大。让上面这坨变小就有了DUVEUV光刻机和EUV光刻机。让下面这坨变大就有了浸润式DUVEUV和HIGH NA EUV。大家如果对这部分感兴趣，后面可以做更准确详细的介绍。

·我相信低端的国产光刻机肯定是有的。像浸润式的DUVEUV、HIGH NA EUV这些先进的光刻机国内造出来的吗？我猜。注意，这里是我猜，浸润式的DUVEUV国产光刻机国内应该是有的，但是目前大概率还没办法投入生产线使用。

·这就是我刚刚说的第二个问题，光刻机能不能连续稳定的工作？因为这玩意儿是要24小时连轴在工厂服务的，你不能说停就停或者今天印出的图形大一点，明天印出的图形小一点。我相信这种稳定性的要求会是国产光刻机不小的挑战。所以大概率先进国产光刻机还没办法参与晶圆厂的流片，否则我猜国内的媒体应该是不会这么低调的。

好像最近光刻机热度又上来了，跟XKL的发布会有关。如果我没理解错，工作人员的大概意思是先进刻蚀设备的配套，也就是光刻机的设备也有了。但这里有一个小小的知识点，刻蚀设备的精度或者分辨率应该是小于或等于光刻机的精度的。因为有SADP或者SAQP这种RET的方法，但是这部分大家如果感兴趣，后面也可以跟大家再详细聊一聊。

我看了XKL的工艺装备介绍手册，确实没有光刻机，而且我印象里这部分其实应该是另一个公司在做的，这部分就不方便说太多了。

最后，为什么说当时光刻工艺研发工程师是甲方儿子？因为ASML独特的技术优势和市场地位，导致了有些时候他们反而是更强势的一方。比如想要一些先进的功能，它就会给你搞一个捆绑销售，而且价格非常贵。另外，买光刻机的时候，我记得应该都是提前比较久来付一大笔款项。所以，我真的很期待国产先进光刻机能够正式投产的那一天。