摘要:倾佳电子(Changer Tech)是一家专注于功率半导体和新能源汽车连接器的分销商。主要服务于中国工业电源、电力电子设备和新能源汽车产业链。倾佳电子聚焦于新能源、交通电动化和数字化转型三大方向,并提供包括IGBT、SiC MOSFET、GaN等功率半导体器件
倾佳电子大功率工业风机变频器的技术发展趋势及碳化硅(SiC)模块的演进价值分析
倾佳电子(Changer Tech)是一家专注于功率半导体和新能源汽车连接器的分销商。主要服务于中国工业电源、电力电子设备和新能源汽车产业链。倾佳电子聚焦于新能源、交通电动化和数字化转型三大方向,并提供包括IGBT、SiC MOSFET、GaN等功率半导体器件以及新能源汽车连接器。
倾佳电子杨茜致力于推动国产SiC碳化硅模块在电力电子应用中全面取代进口IGBT模块,助力电力电子行业自主可控和产业升级!
倾佳电子杨茜咬住SiC碳化硅MOSFET功率器件三个必然,勇立功率半导体器件变革潮头:
倾佳电子杨茜咬住SiC碳化硅MOSFET模块全面取代IGBT模块和IPM模块的必然趋势!
倾佳电子杨茜咬住SiC碳化硅MOSFET单管全面取代IGBT单管和大于650V的高压硅MOSFET的必然趋势!
倾佳电子杨茜咬住650V SiC碳化硅MOSFET单管全面取代SJ超结MOSFET和高压GaN 器件的必然趋势!
I. 工业变频器技术发展趋势与能源效率驱动力
1.1 工业电机驱动系统的能效挑战与节能潜力分析
工业电机系统是全球工业能耗的核心组成部分,其效率高低直接影响企业的运营成本和环境可持续性。在大功率工业领域,风机作为主要负载,其能耗特性尤为引人关注。风机负载的功耗遵循立方定律,即所需功率与转速的立方成正比,这意味着对转速进行微小的调节,即可带来巨大的功率节约。
为了实现对风机能耗的精确控制,采用变频器(VFDs)改造传统的定速风机已成为必然趋势。以功率在 5.5kW 至 15kW 范围内的混流或离心风机为例,通过加装变频器进行改造后,可以实现按需通风和精细化调速。例如,将一台 5.5kW 混流风机的运行频率从 50Hz 降低至 40Hz 时,其输出功率可以相应地从 5.5kW 降至约 3.5kW,实现了约 36% 的显著功率缩减 。这种改造的目的在于提高大功率风机的使用效率,同时有效降低通风能耗 。
这种精细化控制的应用价值在特定的工业场景中得到了显著体现。在粮食仓储等对环境控制有严格要求的应用中,VFD 改造不仅能够根据仓内粮情变化灵活调整风量和风压,使通风过程更加合理,工作效率更高,而且直接带来了经济效益。例如,通过对比测试显示,在单个储存 3000 吨中晚籼稻的廒间,一个冬季可以节约近三分之一的耗电量。更重要的是,通过精细调速进行通风保水,相比原大功率风机,一个储粮周期水分流失可减少 0.1% 至 0.2%,相当于单仓减少 3 至 6 吨粮食损耗,其价值约为 0.8 至 1.6 万元 。由此可见,工业风机 VFD 的技术发展正从简单的调速功能,转向基于环境参数的 精细化、按需控制阶段,以实现能源效率和产品质量维护的双重驱动。
1.2 工业 VFD 改造趋势:从基本调速到精细化、高频控制的演进
工业变频器技术的早期应用主要依赖硅基绝缘栅双极晶体管(Si-IGBTs),但这些传统器件在高频运行下存在固有缺陷,限制了系统的整体性能。传统的 VFDs 受到 IGBT 开关频率上限的限制(通常在 2kHz 至 20kHz),这导致其输出电流谐波含量较高,电机运行噪音较大,且动态响应速度受限,难以满足现代工业对高精度控制的需求。
因此,工业变频器的技术发展趋势必然是转向高频化。提高开关频率 (fsw) 是提升电机控制精度、改善动态响应、降低输出电流谐波、并减小滤波器件体积和成本的必然技术路径。而碳化硅(SiC)功率器件的引入,正是实现这一转变的关键技术突破。
SiC 技术允许开关频率显着提高,例如,在某些应用中可从 IGBT 时代的 20kHz 提升至 80kHz 。这种 4× 或更高的频率提升,使得系统设计可以利用体积与成本的关联性:储能元件(如滤波电感和电容)的物理尺寸与其所需储能容量成正比,而所需储能容量与开关频率成反比。因此,开关频率的大幅提升可以直接将这些无源元件的体积成倍缩小,从而使得整个 VFD 系统的功率密度呈指数级提升。系统体积的缩小不仅降低了材料成本,也节省了安装空间,为工业变频器的轻量化和紧凑化设计奠定了基础。
1.3 传统硅基器件的性能瓶颈与高频化需求
硅基 IGBT 作为过去的主流功率器件,其在高压大电流应用中面临着严重的高频性能瓶颈。IGBT 是一种少子导电器件,在关断过程中存在电流拖尾(Current Tailing)现象,导致其关断开关损耗 (Eoff) 较高,并且该损耗会随着结温的升高而增大。此外,IGBT 内部的反并联二极管存在较大的反向恢复电荷 (Qrr),这在硬开关拓扑下会导致显著的反向恢复损耗 (Err) 和电压尖峰,从而进一步限制了系统的最高运行频率和效率。
碳化硅(SiC)MOSFET 的出现,成功解决了这些核心瓶颈。SiC 器件基于多数载流子导电,不存在电流拖尾现象,从而实现了极低的开关损耗。此外,SiC MOSFET 的体二极管或内置的 SiC 肖特基势垒二极管(SiC SBD)具有接近零的反向恢复电荷 (Qrr) ,几乎消除了 Err 损耗。这些根本性的电气特性,使得 SiC 模块能够在极高的频率下运行,同时保持高效率,是工业 VFDs 实现性能飞跃的基础。
II. 碳化硅(SiC)技术原理及其核心价值基础
2.1 SiC 材料相对于硅(Si)的固有物理优势概述
碳化硅(SiC)作为第三代半导体材料,其固有的物理优势为制造高性能功率器件提供了天然基础。这些优势体现在材料的关键电学和热学特性上:
首先是 SiC 具有高禁带宽度(Bandgap),约为硅材料的三倍。高禁带宽度意味着 SiC 器件能够在更高的温度下稳定运行,且具有更低的本征载流子浓度和更高的耐压能力。
其次是 SiC 具有极高的临界击穿电场强度。这允许器件在相同的耐压等级下,将漂移层做得更薄、掺杂浓度更高。更薄的漂移层直接导致了更低的导通电阻 (RDS(on)),这是功率器件实现低功耗的关键 。
最后,SiC 材料还具备卓越的高导热率,明显优于硅。高导热性能使得热量能够更有效地从芯片结区传导至散热器,支持更高的电流密度和功率密度。同时,SiC MOSFET 允许高达 175∘C 的工作结温 (Tvj,op) ,为系统设计提供了更大的热裕度和灵活性。
2.2 SiC MOSFET 的开关特性与导通电阻 (RDS(on)) 性能分析
SiC MOSFET 在开关特性上的优势是其能够在工业 VFDs 中实现高频运行的根本原因。作为多数载流子器件,SiC MOSFET 在关断过程中没有少子复合延迟,因此无电流拖尾,开关损耗 (Esw) 极低 。这种低开关损耗的特性,使其特别适合高频开关应用,并有助于降低设备的整体体积。某些先进的 SiC 模块,如 Pcore™2 E2B 系列,甚至表现出开关损耗随温度上升反而下降的趋势,这极大地简化了热管理设计 。
在传导性能方面,SiC MOSFET 的导通电阻 (RDS(on)) 性能优异,且具有重要的正温度系数特性。例如,以 BMF80R12RA3 模块为例,在典型 ID=80A、 VGS=18V 的条件下,芯片的 RDS(on) 在 175∘C 时的典型值约为 26.7mΩ,而 25∘C 时为 15.0mΩ,两者之比约为 1.8 。 RDS(on) 的正温度系数对大功率模块的并联应用具有关键的稳定作用。当多个 SiC 芯片在模块内部或多个模块之间并联运行时,如果某个芯片因负载不均而温度略微升高,其 RDS(on) 也会随之增大,这将导致电流自动从该芯片转移到温度较低的相邻芯片。这种机制实现了天然的电流均流效果,极大地提高了大功率模块在复杂工业环境下的长期运行稳定性和可靠性。
2.3 SiC 模块在提升 VFD 功率密度和简化系统设计中的作用
SiC 功率模块的封装和设计理念,是将其芯片优势转化为系统级价值的关键环节。除了支持更高的工作结温(高达 175∘C),SiC 模块还通过消除或简化传统硅基器件所需的复杂外围电路,从而提升了系统的功率密度并简化了设计。
例如,传统 Si-IGBT 模块的二极管存在显著的反向恢复电荷 (Qrr),需要在电路中添加缓冲电路(Snubber)来吸收 Err 损耗和抑制电压尖峰。而 SiC 器件极低的 Qrr 特性,使得这些缓冲电路可以被大大简化甚至取消 ,直接减少了 VFD 系统中的元件数量、体积和成本。
同时,为了最大限度地发挥 SiC 器件的高速开关能力(高 dV/dt 和 di/dt),模块设计必须追求极低的杂散电感 (Lσ)。在像 62mm 这样的标准工业封装中,先进的模块设计已将 Lσ 控制在 14nH 及以下 。这种低电感设计对于避免在快速开关过程中产生过度的 Lσ⋅di/dt 电压尖峰至关重要,确保了器件在高频工作下的安全裕度和可靠性。这种封装技术已成为 SiC 技术价值链中不可或缺的一部分,确保了工业 VFDs 能够可靠地实现高效率和高功率密度目标。
III. SiC 模块性能的量化对比与应用价值实现
3.1 对比分析:SiC MOSFET vs. IGBT 损耗特性
SiC MOSFET 在工业变频器领域替代 Si-IGBT 的核心驱动力是其卓越的低损耗特性,尤其是在高频运行条件下。从损耗结构上看,SiC MOSFET 的总损耗主要由传导损耗构成,而 IGBT 在高频下开关损耗占比高,且随着频率的增加,IGBT 的总损耗呈非线性恶化。
对 SiC 模块在实际应用中的表现进行仿真对比,能够清楚地量化其优势。以 34mm SiC MOSFET 模块 BMF80R12RA3(1200V, 15mΩ)与传统的 1200V 100A 或 150A IGBT 模块在 20kW 全桥焊接电源拓扑中的仿真结果为例 :
焊接电源应用仿真对比 (20kW)
模块型号/类型
开关频率 (fsw)
单开关总损耗 (W)
H 桥总损耗 (W)
整机效率
IGBT (1200V 100A)
20 kHz
149.15
596.6
97.10%
SiC (BMF80R12RA3)
80 kHz
66.68
266.72
98.68%
如上表所示,即使 SiC 模块的开关频率从 IGBT 时代的 20kHz 提升到 80kHz,其 H 桥总损耗(266.72W)仍仅为 IGBT 总损耗(596.6W)的约一半。这一结果表明,通过采用 SiC 模块,整机效率实现了从 97.10% 提升到 98.68% 的显着跨越,提升了约 1.58 个百分点 。
损耗的显着降低对工业 VFD 系统具有深远的工程意义。总损耗减半直接意味着系统内部的发热量大幅减少,因此对散热系统设计的要求也随之降低。在实际系统架构中,这使得设计人员可以缩小散热器的尺寸,甚至可以考虑从复杂的液冷系统转向更具成本优势和维护便利性的风冷系统,从而实现系统级的成本优化、提高可靠性,并进一步提升功率密度。
3.2 电机驱动应用中的效率提升与结温控制
电机驱动是工业变频器的核心应用场景。针对大功率电机驱动的应用,SiC 模块的性能提升优势更为明显。对 62mm SiC MOSFET 模块 BMF540R12KA3 与 62mm IGBT 模块英飞凌 FF800R12KE7 在 237.6kW 电机驱动工况下进行仿真比较,结果充分展示了 SiC 的技术优势 。
电机驱动应用仿真对比 (237.6kW)
模块型号/类型
载波频率 (fsw)
单开关总损耗 (W)
整机效率
最高结温 (Tj) (∘C)
电流输出能力 (Arms) @ Tj≤175∘C
IGBT (FF800R12KE7)
6 kHz
1119.22
97.25%
129.14
446
SiC (BMF540R12KA3)
12 kHz
242.66
99.39%
109.49
520.5
仿真结果显示,即使 SiC 模块将开关频率提高了一倍(从 6kHz 提升到 12kHz),其单开关总损耗(242.66W)仍远低于 IGBT 模块的总损耗(1119.22W),损耗降低了近 78% 。更重要的是,SiC 模块的整机效率达到了 99.39%,相较于 IGBT 的 97.25%,实现了大幅提升 。
损耗降低直接带来了热裕度的释放。尽管 SiC 模块的运行频率更高,但其最高结温仅为 109.49∘C,远低于 IGBT 的 129.14∘C。这一显着的热管理优势表明,SiC 模块在高频运行时拥有巨大的热裕度。
系统设计可以利用这一热裕度来实现功率输出的最大化。通过将结温约束条件提高到器件的最高额定工作温度(Tj≤175∘C)进行计算,结果表明 SiC 模块可以承载更高的输出电流。在这一约束下,IGBT 模块的最大输出相电流为 446Arms,而 SiC 模块的最大输出相电流可达 520.5Arms 。这表明,在相同的热管理条件下,SiC 技术能提供高达 17% 的电流输出能力提升,直接增强了 VFD 的额定功率和峰值性能。
3.3 反向恢复特性 (Qrr) 对高频硬开关拓扑的意义
SiC MOSFET 的体二极管或内置 SBD 在反向恢复特性上的优势,是实现高频硬开关拓扑的基础。传统的硅基功率器件,无论是 IGBT 还是 MOSFET,其体二极管在反向恢复时都会产生明显的反向恢复电荷 (Qrr) 和峰值电流 (Irrm),导致不可忽略的反向恢复能量损耗 (Err) 和电压尖峰。
SiC MOSFET 的体二极管或集成 SiC SBD 则表现出极小的 Qrr 。以 BMF240R12E2G3 模块为例,在
Tj=150∘C 和 ID=240A 的高电流工况下,其 Qrr 仅为 1.9μC 。这种近乎零的反向恢复特性,有效地消除了 Err 损耗和电压尖峰,这对于在工业 VFDs 中常用的硬开关拓扑(如三相逆变器和高频 DCDC 变换器)至关重要。
极低的 Qrr 意味着 SiC 模块可以在没有外部缓冲电路和外加肖特基二极管的情况下,在高频下实现高效率和低电磁干扰(EMI)噪声。这是工业 VFD 能够从传统几 kHz 的载波频率,向数十甚至上百 kHz 迈进的硬件先决条件。
IV. SiC 功率模块封装技术与系统可靠性提升
4.1 模块可靠性基础:陶瓷覆铜基板的选择
大功率 SiC 模块的长期可靠性不仅取决于芯片本身的质量,还严重依赖于其封装材料和结构设计,特别是陶瓷覆铜基板(DCB/AMB)。由于 SiC 器件具有极高的热密度和工作温度范围,基板必须具备优异的导热性、高绝缘强度和良好的热机械匹配性,以承受苛刻的温度循环应力。
在陶瓷材料的选择上,氮化硅(Si3N4)AMB 技术相对于传统的氧化铝(Al2O3)DCB 和氮化铝(AlN)DBC/AMB 具有综合优势 。
机械强度优势: Si3N4 的抗弯强度高达 700N/mm2,远高于 AlN (350N/mm2) 和 Al2O3 (450N/mm2) 。这种卓越的机械性能使得
Si3N4 基板不易开裂,即使在减薄(典型厚度 360μm)以优化热阻的情况下,也能保持结构完整性。
热匹配与热循环可靠性: Si3N4 的热膨胀系数(2.5 ppm/K)与 SiC 芯片的热膨胀系数更接近,从而显著降低了在频繁温度变化(热循环)下产生的热应力。实验证明,Al2O3/AlN 基板在经过 10 次温度冲击后可能出现铜箔与陶瓷分层,而 Si3N4 在 1000 次温度冲击试验后仍保持了良好的接合强度 。 因此,在大功率工业应用中,如 62mm 封装的 BMF540R12KA3 模块,采用 Si3N4 AMB 结合铜基板已成为行业公认的高可靠性设计趋势 。这种设计能够确保模块在承受高热密度和长期热循环应力下的稳定运行。
4.2 模块内部设计对寄生电感和杂散电感 (Lσ) 的优化
SiC MOSFET 的高速开关能力(高 di/dt)是其核心优势,但也给封装带来了严峻的挑战。高速电流变化与回路中的寄生电感 (Lσ) 会产生过高的电压尖峰(Vspike=Lσ⋅di/dt),这可能导致器件超过其额定 VDSS 而发生击穿,从而限制了器件的实际运行速度。
为了应对这一挑战,SiC 功率模块在封装设计中必须进行精细优化,以最小化杂散电感。例如,62mm SiC 模块采用了优化的低杂散电感设计,目标值低至 14nH 及以下 。实现这一目标依赖于多个设计技巧,包括采用平面化母线结构、缩短功率回路路径以及使用共源极引脚来降低驱动回路电感。
这种对 Lσ 的严格控制是 SiC 芯片优势得以全面发挥的关键。如果封装电感过高,设计者将不得不通过增加外部栅极电阻 (RG) 来减缓开关速度(降低 di/dt),从而牺牲 SiC 本应带来的低开关损耗优势。因此,封装设计决定了 SiC 技术能否在工业 VFDs 中实现高效、高频和可靠运行的上限。
4.3 SiC SBD 的集成优势:降低体二极管管压降和双极性退化风险
在电机驱动等工业 VFDs 中,逆变器在电感负载下需要频繁的续流操作,这使得功率器件的体二极管在高频下承受应力。SiC MOSFET 的体二极管虽然 Qrr 极低,但在续流模式下,其管压降 (VSD) 通常较高,且可能存在双极性退化(Bipolar Degradation)的风险,即体二极管长时间导通后,可能导致 MOSFET 的 RDS(on) 增大,可靠性下降 。
针对这一挑战,一些先进的 SiC 模块,例如 Pcore™2 E2B 系列,内部集成了 SiC 肖特基势垒二极管(SiC SBD)。
降低管压降和损耗: 内置 SiC SBD 大幅降低了模块在二极管续流时的管压降。以 BMF240R12E2G3 模块为例,在 ISD=240A 工况下,其芯片 VSD 典型值仅为 1.90V (25∘C) 。相较于 SiC MOSFET 较高的体二极管压降,这显着降低了续流模式下的传导损耗。
消除双极性退化风险: 通过集成 SiC SBD,续流电流主要流经 SBD,避免了 SiC MOSFET 体二极管的导通。这有效降低了 SiC MOSFET 双极性退化风险 。实验数据显示,在普通 SiC MOSFET 中,体二极管导通运行 1000 小时后 RDS(on) 波动高达 42%,而采用内置 SBD 的产品可将 RDS(on) 的变化率控制在 3% 以内,极大地增强了产品的长期可靠性和寿命 。
V. 关键实现技术:SiC 门极驱动与米勒钳位功能
5.1 SiC MOSFET 对驱动电压和门极阈值电压 (VGS(th)) 的特殊要求
SiC MOSFET 的性能释放和可靠运行对门极驱动电路提出了特殊要求。器件通常需要一个相对高的正偏置电压(例如 +18V)以确保导通时通道电阻 (RDS(on)) 最小化,并需要一个负偏置电压(例如 −4V 或 −5V)来确保在关断时的可靠性 。 此外,SiC MOSFET 的门极阈值电压 (VGS(th)) 通常较低(例如 34mm 模块为 2.7V ),且 VGS(th) 具有随结温升高而下降的特性 。较低的 VGS(th) 使得 SiC MOSFET 在高 dV/dt 瞬态过程中更容易被误导通。
为应对这一挑战,部分模块在芯片设计时采用了较高的阈值电压,以增加抗干扰裕度。例如,BMF240R12E2G3 模块的典型 VGS(th) 达到 4.0V 。这种设计是为了在高温和高 dV/dt 瞬态下提供更大的操作裕度,从而降低由米勒效应引发的误导通风险。
5.2 米勒效应(Miller Effect)在高 dV/dt 场景下的误导通风险分析
米勒效应是在半桥电路中使用 SiC MOSFET 时必须解决的核心挑战,尤其是在追求高开关速度的工业 VFD 应用中。
米勒现象的物理原理是:当一个开关管(例如上管 Q1)开通时,桥臂中点电压会迅速从负电源轨跃升至正电源轨,产生极高的电压变化率 dV/dt。这个 dV/dt 会通过对管(例如处于关断状态的下管 Q2)的栅漏寄生电容 (Cgd) 耦合一个瞬态米勒电流 Igd,其大小为 Igd=Cgd⋅(dV/dt) 。该米勒电流流经对管的关断回路电阻 ( RG(off)) 和负电源轨,在栅极产生一个正向电压尖峰,即 Vgs=Igd⋅RG(off)+Vneg。如果这个电压尖峰超过了对管的 VGS(th),则会导致该对管发生非预期的误开通,造成致命的桥臂直通(Shoot-through),严重威胁系统安全 。
由于 SiC MOSFET 的开关速度极快,其 dV/dt 可以轻易达到 30kV/μs 甚至更高 ,加之其较低的 VGS(th),使得米勒现象引发的误导通风险远超传统 IGBT。因此,依赖传统的负偏置或减小 RG(off) 的被动抑制方法已经不足以应对 SiC 的高速运行要求,必须采用主动技术。
5.3 有源米勒钳位(Active Miller Clamp)的工作原理及其在 SiC MOSFET 驱动中的必要性
有源米勒钳位(AMC)功能是为 SiC MOSFET 设计的专用驱动芯片(如 BTD5452R 和 BTD5350MCWR )的核心特性。它提供了一种主动的、低阻抗路径来吸收米勒电流,从而确保器件在高速开关期间的可靠关断。
有源米勒钳位的工作机制:
当 SiC MOSFET 被指令关断后,栅极电压开始下降。一旦栅极电压降至预设的钳位阈值(例如相对于负电源 VEE 的 1.8V),驱动芯片内部的比较器立即启动,打开一个低阻抗的 NMOS 开关(T5),通过 CLAMP 引脚将 MOSFET 的栅极直接连接到负电源轨 ( VEE) 。这种低阻抗通路(例如 BTD5452R 具有 1A 钳位电流能力 )能够高效地吸收通过 Cgd 耦合的米勒电流,防止栅极电压被抬高。
量化抑制效果:
在实际测试中,有无米勒钳位功能的差异是巨大的。在某些测试条件下(例如 VGS=0V 驱动),无米勒钳位时下管的 VGS 尖峰可能高达 7.3V,远超 VGS(th)。而采用了米勒钳位功能后,此尖峰电压可被有效抑制至 2V 左右 。对于使用负偏置驱动(例如 VGS=−4V)的场景,无钳位时尖峰电压可达 2.8V,使用钳位后则可降至 0V 附近 。这种显着的抑制效果保证了器件在高 dV/dt 瞬态下仍能可靠地保持关断状态。
专用驱动芯片的关键特性:
专门为 SiC 设计的门极驱动器,如 BTD5452R,还集成了其他关键功能以增强系统可靠性 :
高 CMTI: 典型值 250V/ns,确保在高 dV/dt 产生的共模噪声下,隔离栅两侧的信号能够可靠传输。
高驱动能力: 5A 峰值拉电流和 9A 峰值灌电流,满足大 QG 模块对快速充放电的要求,以实现高速开关。
故障保护: 集成了退饱和(DESAT)短路故障检测和软关断功能,提供系统级的短路保护,在 SiC MOSFET 发生短路故障时能安全地将其关断。
VI. 工业级 SiC MOSFET 模块产品组合与选型参考
工业应用对功率模块的功率等级、封装尺寸、可靠性和集成度有多样化的需求。基本半导体提供了覆盖中低功率到超大功率的 SiC 模块系列,以满足工业 VFD、感应加热和储能等不同应用场景。
6.1 Pcore™2 34mm 系列模块参数与适用应用
34mm 封装是工业领域常用的紧凑型标准封装,适用于中功率、高频应用,以实现高功率密度设计。这些模块的目标应用包括高端工业焊机、感应加热和紧凑型工业变频器 。
以下是 34mm Pcore™2 半桥模块的关键参数:
型号
VDSS (V)
IDnom (A) (@ TC=80/75∘C)
RDS(on) (mΩ) @ 25∘C
Rth(j−c) (K/W) / Switch
BMF80R12RA3
1200
80 (@ 80∘C)
15.0
0.54
BMF120R12RB3
1200
120 (@ 75∘C)
10.6
0.37
BMF160R12RA3
1200
160 (@ 75∘C)
7.5
0.29
BMF160R12RA3 提供了 7.5mΩ 的低导通电阻和 0.29K/W 的低热阻 ,使其成为中高功率 VFDs 优化尺寸的理想选择。
6.2 Pcore™2 E2B 系列模块参数与适用应用
E2B 系列模块代表了对可靠性和集成度有更高要求的工业应用。该系列采用了先进的 Si3N4 陶瓷基板和内置 SiC SBD 的芯片方案,以应对苛刻的电机驱动和电源控制场景。
E2B 模块的核心价值在于其高可靠性和功能集成 :
高阈值电压: 典型 VGS(th)=4.0V,提高了模块对米勒效应的免疫力。
内置 SiC SBD: 降低了续流损耗,并消除了 SiC MOSFET 体二极管双极性退化导致的 RDS(on) 波动风险。
该系列适用于大功率快速充电桩、APF(有源滤波器)、PCS(电源控制系统)以及电机驱动控制等关键应用 。
BMF240R12E2G3 模块参数:
VDSS=1200V, IDnom=240A @ 80∘C 。
RDS(on)=5.5mΩ @ 25∘C 。
极低结壳热阻 Rth(j−c)≤0.09K/W 。
6.3 62mm 系列大电流模块参数与高功率密度应用
62mm 封装是工业领域的传统大功率标准,SiC 模块利用此封装承载超大电流,实现超高功率密度。这些模块均采用了高可靠性的 Si3N4 AMB 陶瓷基板和铜基板,并针对极低寄生电感进行了优化 。
该系列适用于储能系统、光伏逆变器、辅助牵引和超大功率 VFDs 。
以下是 62mm Pcore™2 半桥模块的关键参数:
型号
VDSS (V)
IDnom (A) (@ TC=90∘C)
RDS(on) (mΩ) @ 25∘C
Rth(j−c) (K/W) / Switch
BMF360R12KA3
1200
360
3.7
0.11
BMF540R12KA3
1200
540
2.5
0.07
BMF540R12KA3 模块展现了业界领先的性能,其 RDS(on) 仅为 2.5mΩ,且结壳热阻 Rth(j−c) 极低,仅为 0.07K/W 。极低的热阻配合低传导损耗,使得这些模块能够在极高的连续电流下保持稳定的低结温,为超大功率工业 VFDs 的小型化和高可靠性设计提供了坚实基础。
VII. 总结与未来展望
7.1 SiC 技术对工业变频器市场的影响总结
碳化硅(SiC)功率模块的出现,为大功率工业风机变频器技术带来了革命性的变革。SiC 技术彻底打破了传统硅基 IGBT 在效率和开关频率上的固有瓶颈,使得工业 VFDs 能够实现质的飞跃,迈向超高能效(99%以上)、高功率密度和高动态响应速度的时代。
SiC 在变频器中的演进价值体现在系统层面的多重优化:
效率和损耗: SiC 模块通过极低的开关损耗和传导损耗,将系统总损耗降至传统 IGBT 方案的约一半(例如,在 20kW 仿真中,损耗降低 55% ),使整机效率突破 99% 的大关。
功率密度: 损耗的降低和开关频率的提升(可达 4 倍或更高),极大地缩小了散热器和无源元件的体积,使得 VFD 整体尺寸大幅减小,实现了功率密度的飞跃。
可靠性: 采用 Si3N4 陶瓷基板、低电感封装设计、以及集成 SiC SBD 等措施,显着增强了模块在高温和高热循环下的可靠性和长期寿命。
控制: 专用 SiC 门极驱动芯片(如具备有源米勒钳位功能的 BTD5452R )解决了 SiC 器件高 dV/dt 带来的误导通风险,确保了系统在高频硬开关下的稳定运行。
SiC 技术的应用不再是简单的器件替换,而是一种全面的系统级设计优化,涵盖了热管理、电磁兼容(EMI)和驱动控制的全面升级。
深圳市倾佳电子有限公司(简称“倾佳电子”)是聚焦新能源与电力电子变革的核心推动者:
倾佳电子成立于2018年,总部位于深圳福田区,定位于功率半导体与新能源汽车连接器的专业分销商,业务聚焦三大方向:
新能源:覆盖光伏、储能、充电基础设施;
交通电动化:服务新能源汽车三电系统(电控、电池、电机)及高压平台升级;
数字化转型:支持AI算力电源、数据中心等新型电力电子应用。
公司以“推动国产SiC替代进口、加速能源低碳转型”为使命,响应国家“双碳”政策(碳达峰、碳中和),致力于降低电力电子系统能耗。
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7.2 SiC 模块在未来工业 4.0 和更高功率密度系统中的发展方向
未来,SiC 模块技术将在工业 4.0 和更高功率密度系统中继续深化发展:
更高集成度: 模块设计将趋向于更高集成化,将 SiC 芯片、SBD、门极驱动电路甚至温度和电流传感器集成到单一模块中。这将进一步简化用户设计,并优化系统级的寄生参数和电磁兼容性能。
先进互连与封装: 为应对 SiC 带来的更高热密度和热循环应力,封装材料和连接技术将持续优化,例如广泛采用烧结银技术替代传统焊料,以提高模块的耐受寿命和可靠性,并推动模块向更高 Tvj 演进。
智能与保护: 门极驱动芯片将集成更多智能保护和控制功能,如更先进的短路检测算法、动态栅极驱动优化和更强大的 CMTI,以应对更复杂、更严苛的工业运行环境,确保 SiC 模块在高频、大功率工业 VFD 中的长久稳定运行。
来源:杨茜碳化硅半导体