摘要：AZ4620是半导体生产，科研比较常见的i线光刻正胶，可以形成5-20um的胶厚，有优异的分辨率和加工稳定性，今天我们深入探讨AZ4620的配方组成及原料合成方法。

AZ4620是半导体生产，科研比较常见的i线光刻正胶，可以形成5-20um的胶厚，有优异的分辨率和加工稳定性，今天我们深入探讨AZ4620的配方组成及原料合成方法。

i线光刻胶的组成？

主要成分包括感光剂、树脂、溶剂和添加剂等。之前有介绍，见文章：

1-Methoxy-2-propanol acetate是什么？

1-Methoxy-2-propanol acetate（PEMEA，1-甲氧基-2-丙醇乙酸酯），中文名为丙二醇甲醚醋酸酯，化学式为C6H12O3，是一种常见有机溶剂，它有良好的溶解能力，挥发速率适中。PEMEA含有酯基（-COO-）和醚基（-O-），这两个官能团使它具有良好的溶解能力和适中的挥发性。在本配方中，所占的比例最多，主要的作用是溶解树脂，改善涂层的流平性，减少涂层在干燥过程中的缺陷。

怎么合成？

首先，环氧丙烷与甲醇反应生成丙二醇甲醚（PGME）。接下来，生成的丙二醇甲醚（PGME）与醋酸（Acetic acid）进行酯化反应，产生丙二醇甲醚醋酸酯（PGMEA）和水。

Cresal novolak resin是什么？

Cresal novolak resin是一种线性酚醛树脂，具体物质名称为：Formaldehyde, polymer with dimethylphenol, 3-methylphenol and 4-methylphenol。

在配方中的作用？

Cresal novolak resin是一种高分子材料，它为光刻胶提供了基本的结构和形状，是光刻胶的主体材料。

Diazonaphtoquinonesulfonic esters

Diazonaphtoquinonesulfonic esters（DNQ）,重氮萘醌磺酸酯，是光刻胶中常见的光敏化学物质。在未曝光的光刻胶区域，DNQ作为溶解抑制剂存在，它可以抑制未曝光的光刻胶在显影过程中溶解。当光刻胶曝光于特定波长的光线时，DNQ分子吸收光能产生化学反应生成1-羧基-3-磺酰基苯并茚，从而改变了它的溶解性。1-羧基-3-磺酰基苯并茚在显影液中溶解，那么曝光部位就被除去。

其他添加剂

溶解促进剂：溶解促进剂能够显著提高曝光区的溶解速率，而对未曝光区的影响较小，并可以改善树脂的粘附性和光敏性。

表面活性剂：用于改善流平性，确保膜厚均匀。

粘附促进剂：增强光刻胶与晶圆之间的粘附力。

紫外线吸收剂：减少光反射导致的驻波问题。

光刻胶有毒吗？

这三种主要成分中，PGMEA是毒性最强的。接触PGMEA可能会立即刺激皮肤和眼睛。吸入其蒸气可能刺激呼吸道。对肝脏和肾脏，中枢神经也会造成一定不良影响。由于PGMEA的的化学毒性，那么也导致了光刻胶具有相应的毒性，因此在使用光刻胶时应注意做好防护措施。

来源：生活小发现