半导体制造的光刻工艺常用光刻胶系列

B站影视 港台电影 2025-09-13 18:00 2

摘要:TOK提供多种类型的光刻胶,以满足各种光刻需求。这包括正胶、负胶、i-线、g-线、深紫外线(DUV)和极紫外线(EUV)光刻胶等。

TOK提供多种类型的光刻胶,以满足各种光刻需求。这包括正胶、负胶、i-线、g-线、深紫外线(DUV)和极紫外线(EUV)光刻胶等。

G线胶有OFPR Series、TSMR Series两个系列。

i线胶有TSMR Series、THMR-iPSeries、TDMR-AR Series三个系列。

KrF胶有TDUR系列

ArF胶有TARF系列

EUV光刻胶:联系供应商询问

*本文仅分享与科普,无推广意图,请自行辨别!

来源:胜白带您了解历史

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