铜互联的替代者,IBM最新分享
IBM在最新的博客文章中则表示,即使过了 27 年,IBM 在 CMOS 半导体生产中引入 Cu(铜)镶嵌技术用于 BEOL(后端制程)的创新仍然是高性能、低功耗逻辑集成电路芯片制造的行业标准。
IBM在最新的博客文章中则表示,即使过了 27 年,IBM 在 CMOS 半导体生产中引入 Cu(铜)镶嵌技术用于 BEOL(后端制程)的创新仍然是高性能、低功耗逻辑集成电路芯片制造的行业标准。
自从硅成为晶体管的首选材料,并进一步应用于集成电路后,创新材料的整合在推动基于硅的器件发展中发挥了关键作用。近年来,为了提升硅集成电路的性能,新材料得到了快速采用。为了保持摩尔定律在“More Moore ”和“More than Moore”设备中的有效性,
它们还是「功能性腺体( functional glands)」,可产生母ru。
设计既高效又耐用的电催化剂对碱性HER生产技术的工业化应用至关重要。目前, Ru基碱性HER催化剂面临的一个主要问题是水分解能垒过高。本文通过在单原子Ni-N 4位点调控Ru纳米团簇(Ru NCs)的电子结构,有效降低了水分解的能垒。X射线吸收精细结构(XAF
2003 年非典爆发,多数记者畏惧,柴静逆行深入医院病房,聚焦医护与病人,细腻报道传递勇气希望,成 “抗非英雄” 获赞誉。2008 年汶川地震,奔赴灾区穿梭废墟,记录救援灾民情况,制作纪录片触动国人,事业再攀高峰。
钌(Ru)作为氢氧化反应(HOR)的最佳候选材料之一,在阴离子交换膜燃料电池(AEMFCs)中引起了广泛的关注,但由于其具有很强的氢氧根亲和性,在碱性条件下动力学缓慢。