AI行业观察:英伟达芯片面积创新高;Gemini功能持续升级
在2025年GTC大会上,英伟达发布了下一代加速卡BlackwellUltra、Rubin及RubinUltra,其芯片面积持续突破光罩极限,折射出先进封装技术的挑战。与此同时,GoogleGemini通过“画布”与音频概览功能提升用户体验,OpenAI、Me
在2025年GTC大会上,英伟达发布了下一代加速卡BlackwellUltra、Rubin及RubinUltra,其芯片面积持续突破光罩极限,折射出先进封装技术的挑战。与此同时,GoogleGemini通过“画布”与音频概览功能提升用户体验,OpenAI、Me
中国芯片光罩技术五年内从130纳米狂飙到逼近7纳米,几乎跨越了海外巨头二十年的发展历程!光罩这个词,普通人听着陌生,但它却是芯片制造的“命门”——就像照相馆的底片,没有它,再好的相机也洗不出照片。今天,咱们就用最接地气的大白话,聊聊这场“纳米级赛跑”背后的故事
自2020年以来,半导体产业链的国产化水平得到了飞速地提升,近日由工信部站台推广的ArF干式光刻机便是一例。同样在光刻材料的国产化中,光罩的国产化也十分引人瞩目。可以说在这五年里,中国大陆地区的本土光罩厂走过了从边缘到核心,从0.13微米到14纳米的蜕变和进化
在本月召开的欧洲开放创新平台(OIP)论坛上,台积电宣布计划在 2027 年推出超大尺寸版晶圆级封装(CoWoS)技术,最高实现 9 倍光罩尺寸(reticle sizes)和 12 个 HBM4 内存堆叠。
今年初台积电的封装技术路线呈现两种选择,一是不断加大CoWoS基板尺寸,即制造巨大芯片,另一个是系统级芯片(SoW)。台积电在欧洲开放创新平台(OIP)论坛上宣布,超大型基板CoWoS封装技术将于2027年通过认证,推出9倍光罩尺寸(reticle sizes