栅极

TEL(东京电子 )超越1nm

将涵盖那些能够推动逻辑晶体管和互连技术持续向1nm节点及更先进制程演进的工艺技术。衡量逻辑密度的关键指标是 “逻辑单元宽度 × 逻辑单元高度” 的乘积。栅极间距的微缩是逻辑单元宽度微缩的关键因素。为实现这一点,栅极长度、栅极侧壁宽度和接触特征尺寸的微缩是必要的

东京 场效应 栅极 1nm pdn 2025-04-01 13:26  1

芯片,怎么办?

台积电N2 开发团队负责人 Geoff Yeap 在 IEDM 座无虚席的观众面前强调了该代工厂 N2 平台的每瓦性能。Yeap 代表 60 多位 2 纳米平台论文的合著者表示:“技术进步不仅仅关乎性能。它关乎节能计算,这是移动、AI PC 和 AI 处理的关

芯片 yuan 台积电 栅极 vdd 2025-04-01 09:32  1

金刚石芯片,首次演示

日本产业技术综合研究所 (AIST) 与本田技术研究院合作,制造了 p 型金刚石 MOSFET 原型,并首次演示了安培级高速开关操作。未来,该公司计划将该技术搭载于下一代移动动力装置中,并进行运行验证,以期在社会中得以实施。

芯片 金刚石 mosfet 安培 栅极 2025-03-27 12:33  2

芯片巨头们,亮相下一张“王牌”

它是在巨大的进步飞跃基础上发展起来的,年复一年地积累,其发展速度可能超过历史上任何其他行业。国际电子器件制造会议(IEDM)是芯片制造商展示这一进展的关键平台之一。会议论文主题涵盖从具有商业相关性的,到那些最终可能具有商业相关性的,以及其他一些可能不具备商业相

芯片 场效应 栅极 2025-02-06 18:49  6

FLASH:一文读懂FLASH的工作原理与应用

闪存是 “即使切断电源也能保存记录的数据(非易失性),并且可以对数据进行重写的半导体存储器”。由于其小巧轻便、抗冲击性强,且在切断电源后数据也不会丢失等特点,被广泛应用于各种设备中。

flash 栅极 漏极 2025-01-31 20:45  7

NAND和DRAM,技术发展展望

NAND 单元架构于 1987 年提出。单元(cell)在接触插头(contact plugs)之间串联,以显著减少面积。1988 年,开发了基本工作原理,将 Fowler-Nordheim (FN) 隧道技术用于编程和擦除。与热载波编程相比,这实现了低功耗运

nand dram 栅极 2025-01-30 15:22  7

应用笔记|栅极驱动IC最大开关频率估算

最大开关频率是栅极驱动芯片的重要性能指标,其表现会受到驱动芯片的封装、负载条件、散热等多方面因素的制约。此外,如果半桥驱动集成了自举二极管,功耗的计算方式也会有所不同。本应用手册以NSD1026V为例,详细说明了栅极驱动芯片在不同条件下最大开关频率的估算方法及

ic 开关 栅极 2025-01-23 18:16  7