摘要：2025年8月1日，杭州一家叫璞璘科技的公司宣布，他们做出来了中国第一台能真正用在芯片制造上的纳米压印光刻机。这种机器名字听着复杂，但它的意义很简单——之前全球能造这种高端设备的只有日本佳能和荷兰ASML，现在中国人终于有了自己的“替代品”。

2025年8月1日，杭州一家叫璞璘科技的公司宣布，他们做出来了中国第一台能真正用在芯片制造上的纳米压印光刻机。这种机器名字听着复杂，但它的意义很简单——之前全球能造这种高端设备的只有日本佳能和荷兰ASML，现在中国人终于有了自己的“替代品”。

这台机器叫PL-SR，能做的最小线宽不到10纳米，比佳能最先进的设备还要精细。可能有人觉得“线宽”是个专业词，简单来说，就是芯片上的电路有多细。越细，芯片性能越好，但制造难度也越高。以前咱们只能买别人的设备，现在自己造出来了，至少在某个领域算是追平甚至超过了别人。

为什么说这是一场打破垄断的“战役”？因为光刻机是芯片制造的“心脏”，没有它就做不出高端芯片。荷兰ASML垄断了最顶尖的EUV光刻机，一台要好几个亿，而且美国人不准卖给我们。日本佳能虽然没被美国“使绊子”，但他们的技术一直卡着咱们的脖子。杭州这家公司从2017年开始研发，花了整整八年时间，才做出这台机器。

不过，这技术跟ASML的EUV完全不一样。EUV靠的是用极紫外光“照”出电路图案，而纳米压印就像是用印章“印”图案。璞璘科技的机器先把图案刻在模板上，再直接“盖”到芯片材料上，省去了复杂的光学系统。这种方式最大的好处是便宜——能耗只有EUV的十分之一，机器价格也低很多，对小厂来说能省大钱。

但别高兴得太早，这种技术也有短板。比如速度，EUV机器每小时能生产200多片芯片，而纳米压印只能做出100片左右。另外，用的模板容易磨损，重复使用几次后图案可能变形。不过对存储芯片这种重复性高的产品来说，这些问题暂时能接受。比如3D NAND闪存，用这台机器做的话，成本能再降一截，未来咱们国产存储芯片的价格可能更有竞争力。

有意思的是，这台机器的研发其实是个“逆袭”故事。三年前，ASML的CEO还嚣张地说“就算公开图纸，中国也造不出EUV光刻机”。现在虽然没做EUV，但咱们另辟蹊径搞出了另一种方案，这算是给国外企业一个下马威。就连ASML自己也被迫改变策略，去年他们在中国赚了36%的利润，最近还偷偷把北京维修中心的规模扩了大，生怕得罪中国客户。

其实，这台纳米压印机只是中国半导体突破的冰山一角。其他地方也在发力：浙大做了能刻0.6纳米的电子束光刻机，上海微电子的ArF光刻机精度做到8纳米，就连EUV最核心的光源技术，哈尔滨工业大学和清华大学也有进展。

不过困难还不少。比如模板寿命，一块好的模板用不了多久就得换，成本就又上去了。还有生产时容易出现气泡、残胶之类的毛病，影响芯片质量。这些都是璞璘科技现在需要解决的问题，但至少他们已经迈出第一步了。

说到底，芯片产业就跟拼积木一样，每个环节都要有自己人做。以前咱们缺这缺那，现在越来越多设备能自己造了。虽然还达不到全球顶尖水平，但至少不用完全看别人脸色。未来可能还会有更多类似的故事，比如用不同的技术路线绕开别人的封锁，这种“迂回战术”或许正是中国半导体的出路。

普通消费者可能不太懂这些设备，但想想手机内存越来越便宜，说不定就有这台机器的功劳。技术进步就是这样，一步步来，总比原地踏步强。

来源：奇妙雪碧T