摘要：国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“基于多模光纤成像的量测系统和光刻设备”的专利，公开号CN120476347A，申请日期为2023年11月。

金融界2025年8月12日消息，国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“基于多模光纤成像的量测系统和光刻设备”的专利，公开号CN120476347A，申请日期为2023年11月。

专利摘要显示，一种检查系统包括辐射源、多模光纤、光学结构、二维检测器阵列和计算装置。所述辐射源辐照目标，以从目标生成散射辐射。所述散射辐射包括衍射阶对。所述多模光纤接收散射辐射并基于所述多模光纤的传播性质来输出衍射阶对的混合。所述光学结构在所述多模光纤的输入侧组合所述衍射阶对。所述二维检测器阵列接收所述衍射阶对的混合并生成与所述衍射阶对的混合相对应的测量信号。所述计算装置基于所述传播性质来分析所述测量信号，并且基于所述分析来辨别所述衍射阶对的强度。

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