吉通科技申请提高光刻机分辨率专利,大幅提升光刻机的分辨率

B站影视 2025-01-28 09:23 1

摘要:国家知识产权局信息显示,吉通科技(广州)有限公司申请一项名为“改进4的一种提高光刻机分辨率的方法”的专利,公开号CN 119356036 A,申请日期为2024年7月。

金融界2025年1月28日消息,国家知识产权局信息显示,吉通科技(广州)有限公司申请一项名为“改进4的一种提高光刻机分辨率的方法”的专利,公开号CN 119356036 A,申请日期为2024年7月。

专利摘要显示,改进4的一种提高光刻机分辨率的方法,本发明将光存储单元置于物镜和晶圆之间,曝光时,信号光经过透镜系统后,在光存储单元以原子自旋波的形式临时保存,光的能量转化为光存储单元介质原子的能量,随后所存储的光信息会按照原来的方向释放出来,可以视为1个理想的点光源,这个点光源按照原来的方向传播,由于传播的路径没有透镜孔径限制,有效孔径变大,对应的艾里斑变小,最小可分辨尺寸就会降低,当这个点光源达到晶圆时,艾里斑宽度变窄,光刻机的分辨率得到大幅提升,这样的益处在于对光刻机的孔径要求可以降低,为了实现同样的分辨率要求,透镜成像系统可以采用小的孔径,这无形中降低了制造的难度和成本。

天眼查资料显示,吉通科技(广州)有限公司,成立于2021年,位于广州市,是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本100万人民币,实缴资本100万人民币。通过天眼查大数据分析,吉通科技(广州)有限公司参与招投标项目16次,专利信息6条,此外企业还拥有行政许可6个。

本文源自金融界

来源:金融界

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