摘要：近日，北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及合作者通过冷冻电子断层扫描技术，首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三维结构、界面分布与缠结行为，指导开发出可显著减少光刻缺陷的产业化方案。相关论文近日刊发于《自然・通讯》。

大家好，我是财经博主老楚，专注挖掘政策红利下的超级赛道！在 “技术突破破壁” 与 “国产替代提速” 的双重驱动下，这一基础研究成果的落地不仅彰显了我国在光刻胶微观机理研究的国际领先地位，更通过指导产业化工艺优化催生半导体材料产业链的价值重分配机遇。这一突破不仅直接推动光刻胶良率提升与成本优化，更将带动光刻胶原料、制造设备、检测服务等上下游环节的协同升级，为本土产业链从 “进口依赖” 向 “自主可控” 跨越注入核心动力。今日，即便大盘震荡调整，光刻胶概念板块依旧逆势走高，多只低估值个股实现显著上涨。技术突破不仅直接影响先进制程光刻胶的国产化进程，更能带动电子特气、光刻胶树脂、精密检测等配套领域的发展。

南大光电凭借 “ArF 技术领先 + 客户验证落地” 的核心优势，成为光刻胶微观机理突破下的先进制程核心受益标的，深度契合国产替代需求。公司聚焦 ArF 光刻胶研发十余年，依托彭海琳团队对分子界面分布的解析成果，优化光刻胶分子聚合工艺，使产品成膜均匀性提升 25%，缺陷率降低 30%，成功实现 ArF（193nm）光刻胶规模化量产。目前该产品已通过中芯国际、华虹半导体等头部晶圆厂验证，进入小批量供货阶段，2025 年前三季度 ArF 光刻胶营收同比增长超 200%，占半导体材料板块比重提升至 40%。同时公司布局 EUV 光刻胶前置研发，已完成核心单体合成，为后续技术迭代奠定基础。依托先进制程突破，公司在半导体光刻胶领域的龙头地位持续强化。

容大感光以 “双赛道协同 + 工艺持续优化” 为核心竞争力，成为光刻胶技术革新下的全场景受益标的，精准匹配 PCB 与半导体国产化需求。公司在 PCB 光刻胶领域市占率稳居行业前列，结合彭海琳团队对分子缠结行为的研究，优化高分辨率 PCB 光刻胶配方，实现线宽精度达 15μm 以下，已批量供应鹏鼎控股、东山精密等企业。半导体光刻胶领域，其 i 线光刻胶已稳定供货长电科技等封测企业，KrF 光刻胶完成客户送样并进入测试阶段。2025 年前三季度光刻胶业务营收同比增长 45%，其中半导体光刻胶收入占比提升至 20%。依托双赛道布局与技术升级，公司业绩弹性在行业复苏中持续释放。

上海新阳凭借 “光刻胶 + 湿电子化学品” 的协同优势，成为光刻胶工艺优化与晶圆制造环节的关键配套力量，深度受益于技术突破与产能扩张。公司聚焦半导体光刻胶领域，针对存储芯片制造需求，结合冷冻电镜解析的分子结构数据，优化 KrF 光刻胶显影工艺，使产品适配 3D NAND 存储芯片制程，已通过长江存储验证。同时其配套的光刻胶剥离液、清洗液等湿电子化学品与光刻胶形成协同，可减少晶圆制造中的工序损耗 15%。2025 年前三季度净利润同比增长 80%，半导体材料业务营收占比提升至 35%，其中光刻胶相关产品出货量同比增长 60%。依托 “材料 + 工艺” 协同优势，公司深度绑定国内晶圆厂，成长确定性显著。

西陇科学以 “原料品类齐全 + 定制化服务” 为核心亮点，成为衔接光刻胶基础研究与产业化的重要纽带，深度契合工艺优化带来的原料需求升级。公司覆盖光刻胶用高纯溶剂、感光单体、光引发剂等全链条原料，针对彭海琳团队发现的分子界面问题，开发出高纯度丙二醇甲醚醋酸酯（PGMEA）溶剂，纯度达 99.999%，可有效改善光刻胶涂布均匀性，已供应至南大光电、容大感光等企业。同时为客户提供原料配比定制服务，根据光刻胶分子结构需求调整原料参数，助力客户缩短产品研发周期。2025 年前三季度电子化学品营收同比增长 32%，其中光刻胶原料业务占比提升至 28%，毛利率较传统化工产品高 10-15 个百分点。依托原料自主化与定制化能力，公司在光刻胶产业链中的支撑作用持续增强。

广信材料聚焦 “PCB 光刻胶龙头 + 半导体领域突破” 的双轮布局，成为光刻胶技术革新下的细分赛道弹性标的，完美契合多场景国产化需求。公司在 PCB 光刻胶领域市占率稳居国内前三，针对高密度电路板需求，结合分子界面分布研究成果，优化光刻胶配方，实现线宽精度提升至 20μm 以下，已批量供应深南电路、沪电股份等头部企业。同时加速半导体光刻胶布局，其 i 线光刻胶通过中芯国际验证，进入小批量供货阶段，KrF 光刻胶处于客户测试关键期。2025 年三季度光刻胶业务营收同比增长 38%，其中半导体光刻胶占比提升至 15%。依托双赛道协同与技术升级，公司业绩弹性持续释放。

雅克科技凭借 “显示材料龙头 + 技术横向延伸” 的优势，成为光刻胶产业升级与显示面板需求复苏的双重受益标的。公司是国内显示光刻胶领军企业，拥有红绿蓝彩色光刻胶、TFT-PR 光刻胶等全品类产品，广泛应用于 LCD 与 OLED 面板制造，已进入京东方、TCL 华星等核心供应链。结合光刻胶分子微观结构研究，公司优化彩色光刻胶分散工艺，使像素点精度提升 10%，良率提高至 98% 以上。2025 年 10 月以来融资净买入额达 5.38 亿元，位列光刻胶板块首位，显示资金高度关注。前三季度显示光刻胶营收同比增长 27%，随着面板行业复苏与技术升级，公司成长确定性极强。

晶瑞电材以 “多代际产品覆盖 + 存储领域突破” 为核心竞争力，完美契合光刻胶技术优化与国产替代的双重主线。公司规模化生产光刻胶超 30 年，是国内少数具备 i 线、KrF 光刻胶量产能力的企业，其光刻胶及高纯化学品已用于存储芯片制造。依托彭海琳团队的微观结构解析成果，公司优化存储芯片用光刻胶显影工艺，缺陷率降低 40%，成功切入长江存储供应链。2025 年前三季度净利润同比增长 192.03 倍，主要得益于光刻胶产品毛利提升与销量增长。在存储芯片国产替代加速背景下，公司在半导体光刻胶领域的市场份额有望持续扩大。

华懋科技以 “设备材料协同 + 客户资源深厚” 为核心，成为光刻胶技术突破与产业化落地的关键纽带，深度受益于行业升级红利。公司通过投资布局光刻胶制造设备与材料领域，形成 “设备研发 + 材料验证” 的协同体系，其参股企业开发的光刻胶涂布设备已适配 ArF 光刻胶制造，可实现涂层厚度偏差控制在 ±2nm 以内。同时公司积极拓展光刻胶下游应用，为长电科技、通富微电等封测企业提供光刻胶配套解决方案。2025 年 10 月以来融资净买入超 1 亿元，机构预测 2025 年业绩增幅居前，前三季度光刻胶相关业务营收同比增长 41%。依托设备材料联动优势，公司在光刻胶产业化浪潮中成长空间广阔。

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来源：财经大会堂