摘要：”——这句问法已经过时了。2023年的新剧本是：中国人正在写一套“不用ASML也能拍7纳米大片”的剧本，而且道具、灯光、演员全都自己搭，开机键已经按下。
“EUV光刻机我们到底还要多久才能买到？
”——这句问法已经过时了。2023年的新剧本是：中国人正在写一套“不用ASML也能拍7纳米大片”的剧本，而且道具、灯光、演员全都自己搭，开机键已经按下。
先给结论：
1. 光源、EDA、硅片、光刻胶，四块曾经卡脖子的“硬骨头”同时被啃开裂缝；
2. 14纳米跑通，7纳米等效性能靠“堆叠+chiplet”曲线救国，良率爬进90%俱乐部；
3. 国家把保险、资金、订单打包成“三件套”塞给企业，补贴力度直接按“保费80%”写进合同，相当于官方出面告诉你：“大胆试错，国家买单。
”
下面把镜头拉近，看看到底怎么“自己拍大片”。
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一、先换“灯泡”：SSMB把EUV从“独家进口”变成“国产可租”
ASML的EUV之所以难，难在“灯泡”——功率250瓦、稳定性99.999%的激光等离子体光源全球只此一家。
中科院上海光机所和清华联手搬出“稳态微聚束”（SSMB）方案，用电子储存环持续输出波长13.5纳米的极紫外光，功率理论上可冲到千瓦级，且不用锡滴靶，少了“每秒五万滴锡”的极限操作，可靠性直线上升。
通俗比喻：以前ASML用“狙击枪”一枪枪打点，我们直接上“激光笔”持续照射，亮度够、寿命长、材料省。2023年6月工程样机已点亮，下一步是塞进洁净间做“7×24”疲劳测试，一旦跑满1000小时，国产EUV就能从PPT走进FAB。
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二、再换“剧本杀”：EDA工具链一口气补到5纳米
芯片设计就像写剧本，没有EDA相当于让导演手写分镜。
华大九天9月发布的“九天玄机”把14纳米验证跑通，5纳米节点也能全流程闭环；芯华章的chiplet工具更狠，直接给“乐高积木”式拼芯片写好了“说明书”。
以前国产EDA只能做“前半场”，后端验证必须抱Synopsys、Cadence大腿，现在“写剧本—分镜—剪辑—成片”一条龙都能在自己家里完成，设计数据不再出国门。
对于fabless公司来说，工具链国产化率从30%拉到80%，最直观的是“license费用砍半”，一颗7纳米芯片设计成本直接省下1500万美元，足够再流两次片。
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三、补“胶片”：硅片+光刻胶同时冲破11个9
硅片纯度11个9（99.999999999%）听起来像玄学，却是28纳米以下必须跨过的门槛。
中环股份2023年Q3通过认证，12英寸硅片正式批量供货；上海新阳KrF光刻胶良品率拉到国际水平，意味着“28—14纳米”这一档主流量产不用再囤日本货。
一句话：胶片自给，放映机才不会空转。
材料端一旦国产，采购周期从6个月缩到6周，fab厂再也不用“一船硅片卡住一条产线”。
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四、设备“配角”先上桌：28纳米DUV全国产跑通
主角EUV还在化妆，配角DUV已经扛起了票房。
上海微电子28纳米DUV光刻机2023年交付第50台，北方华创刻蚀机打进台积电5纳米“辅助设备”名单，拓荆PECVD全球市占率12.3%，排第四。
逻辑很简单：先让28纳米全国产线转起来，用利润养研发，再向上攻14/7纳米。
设备国产化率每提高10%，整条产线折旧成本降8%，fab厂才有底气跟台积电打价格战。
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五、官方“氪金”：保险、基金、示范线三箭齐发
2023年8月国务院发文，国家大基金三期再掏1000亿元，九部委给“首台套”上保险：企业买国产设备，保费国家出80%，出险即赔。
长三角同步开建“东方芯港”，目标一条马路走到头——左边EDA大楼，右边硅片厂，拐个弯就是12英寸FAB，物流时间按小时计。
政策翻译成人话：试错成本国家垫，量产订单政府塞，企业唯一要做的事——把东西做出来并且能用。
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六、国际对手也没闲着：ASML继续卖DUV，美国升级禁令
荷兰新出口管制2023年底生效，但ASML拿到“最后窗口期”继续交付，意味着中国fab厂还有时间囤货、练手。
美国则把GAAFET晶体管技术写进禁令，直接瞄准2纳米以下，意图把“下一代技术”提前锁死。
对手越用力，越说明我们路线对了——如果国产28纳米没跑通，美国根本懒得再升级禁令。
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七、下一步“攻坚战”清单
1. High-NA EUV：清华团队牵头，目标把数值孔径从0.33推到0.55，分辨率摸到2纳米；
2. 碳化硅功率器件：三安光电湖南基地2024年Q2量产，车载800V高压平台等着用；
3. Chiplet互联标准：中科院计算所主导，统一“接口语言”，让不同厂的小芯片能拼成一颗大芯片，绕过先进制程瓶颈。
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收尾一句话：
ASML的EUV仍然是最尖端的“单反”，但中国人正在用“国产相机+国产灯光+国产胶片”拍出自己的7纳米大片。
灯泡已点亮，剧本已写好，胶片已上卷，开机键按下——这一次，观众不仅等着看结局，还等着看票房。
来源：永悟知心
