挪威卑尔根

原子光刻横空出世:精度超EUV15年

原子光刻技术正以颠覆性姿态闯入芯片制造领域。挪威Lace Lithography公司研发的原子束直写技术,分辨率突破0.3纳米,相当于在头发丝截面上雕刻整部《红楼梦》,精度超越当前最先进EUV光刻机15年。这项技术不仅绕开ASML光刻机的物理极限,更将芯片制造

asml 光刻 光刻机 挪威卑尔根 lace 2025-06-25 17:28  3