台积电2nm

台积电2nm,全部细节披露

在 IEDM 上,人们对即将转向全栅 (GAA) 晶体管结构进行了大量讨论。这种新设备为继续缩小设备尺寸带来了许多好处,无论是在单片设备级别还是在多芯片设计中。通往 GAA 的道路并不简单,需要处理新的材料、工艺和设计考虑因素。台积电在这方面投入了大量精力。

台积电 台积电2nm 2nm 2024-12-24 10:45  2

台积电2nm吊打对手的武器

鉴于现代设计对 SRAM 的依赖程度,SRAM 单元大小和密度是新制造技术的主要特征。根据 ISSCC 2025 先进计划,英特尔 18A 制造工艺(1.8nm 级)的 SRAM 密度显然远低于台积电的 N2(2nm 级),并且更接近台积电的 N3 。不过,英

台积电 台积电2nm 2nm吊打 2024-12-05 09:52  1