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光刻胶国产替代，“四大金刚” 突围在即！

光刻胶（Photoresist）又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。

厦门恒坤新材料科技股份有限公司(以下简称“恒坤新材”或公司) 致力于集成电路领域关键材料的研发与产业化应用，是境内少数具备12英寸集成电路晶圆制造关键材料研发和量产能力的创新企业之一，主要从事光刻材料和前驱体材料的研发、生产和销售。

4月3日，日本宣布对华实施EUV光刻胶出口管制的消息。许多人可能会疑惑：光刻胶？那不就是一种化学材料吗？为什么这样一种看似普通的"胶水"，会成为价值数万亿的半导体产业命脉，甚至被用作全球政治与科技博弈的筹码？

在新加坡开车，从来不是一件轻松或便宜的事。你以为加满一箱油就够了？

本身就是美国自己疯狂加出来的完全偏离实际、完全没有可行性的关税，这次会谈的结果仅仅是让双方回到正轨，或者说是回到4月份的原点

据悉，这一增长主要由先进光刻胶需求大幅增长驱动，特别是EUV光刻胶预计同比增长30%。随着芯片产量增长，尤其是逻辑芯片和DRAM芯片领域先进节点器件产量提升，辅助材料和扩展材料也将呈现强劲增长态势。