上海高梵申请可消除褶皱的服装面料反光测试装置专利,保证面料在测试中处于平整的状态
国家知识产权局信息显示,上海高梵科技有限公司申请一项名为“一种可消除褶皱的服装面料反光测试装置”的专利,公开号CN120102520A,申请日期为2025年03月。
国家知识产权局信息显示,上海高梵科技有限公司申请一项名为“一种可消除褶皱的服装面料反光测试装置”的专利,公开号CN120102520A,申请日期为2025年03月。
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