汇成真空涨2.25%，成交额5.11亿元，今日主力净流入494.99万
招股说明书：镀膜设备作为芯片制造过程中核心的三大设备（光刻、刻蚀和镀膜）之一，对设备的可靠性、稳定性和一致性提出了极高的要求。公司产品主要为 PVD 真空镀膜设备。根据公司官网，公司原子层沉积(ALD)技术是将物质以单原子膜形式过循环反应逐层沉积在基底表面，形
真空镀膜设备
汇成真空涨3.75%，成交额6.16亿元，今日主力净流入2982.43万
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汇成真空涨0.86%，成交额2.98亿元，后市是否有机会？
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汇成真空跌0.69%，成交额3.94亿元，今日主力净流入-1752.53万
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汇成真空涨3.91%，成交额3.73亿元，近3日主力净流入2484.13万
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汇成真空涨2.03%，成交额8233.27万元，近5日主力净流入-2836.18万
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汇成真空跌3.05%，成交额8983.54万元，今日主力净流入-1141.01万
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汇成真空涨3.06%，成交额1.68亿元，近3日主力净流入-2555.24万
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汇成真空跌4.30%，成交额1.53亿元，近5日主力净流入-2103.38万
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汇成真空跌3.83%，成交额1.41亿元，近5日主力净流入-1930.83万
招股说明书：镀膜设备作为芯片制造过程中核心的三大设备（光刻、刻蚀和镀膜）之一，对设备的可靠性、稳定性和一致性提出了极高的要求。公司产品主要为 PVD 真空镀膜设备。根据公司官网，公司原子层沉积(ALD)技术是将物质以单原子膜形式过循环反应逐层沉积在基底表面，形