结构sers

中国有研科技集团取得一种浸润性多级纳米阵列结构SERS衬底的制备方法专利

国家知识产权局信息显示，中国有研科技集团有限公司取得一项名为“一种浸润性多级纳米阵列结构SERS衬底的制备方法”的专利，授权公告号 CN 114852950 B，申请日期为 2022年1月。