电子发烧友网报道（文/黄山明）在半导体行业迈向3nm及以下节点的今天，光刻工艺的精度与效率已成为决定芯片性能与成本的核心要素。光刻掩模作为光刻技术的“底片”，其设计质量直接决定了晶体管结构的精准度。

芯片 掩膜 摩尔定律 科技掩膜 掩膜方案 2025-05-16 17:52  2

2025年4月29日，Meta首届AI开发者大会LlamaCon，扎克伯格与微软CEO萨提亚·纳德拉对谈，揭示 AI 领域正经历惊人变革。他们指出，AI正经历每6~12个月，性能或效率可能提升10倍的疯狂加速版摩尔定律，正推动应用从单一模型转向多模型协同与智能

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