最新动向！鲍哲南院士、崔屹院士等，最新5篇Nature集锦，无掩膜光刻立大功！
近年来，传统半导体的发展愈发受制于固有物理极限，漏极诱导势垒降低、界面散射导致的迁移率退化、半导体带宽限制的电流开关比等问题逐渐凸显。在此背景下，原子层厚度的二维（2D）半导体凭借特殊的电子特性，成为突破后硅时代技术瓶颈的核心方向。
光刻
ASML申请基于多模光纤成像的量测系统和光刻设备专利，辨别衍射阶对的强度
国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“基于多模光纤成像的量测系统和光刻设备”的专利，公开号CN120476347A，申请日期为2023年11月。
AI芯天下丨热点丨国内首台10nmn纳米压印光刻机系统交付，光刻领域迎国产化突破
传统光刻通过光学投影将电路图案转移到涂有光刻胶的晶圆上，而纳米压印光刻（NIL）基于机械转移原理，像盖章一样使用模板通过机械力直接将图案压印到涂有压印胶的晶圆表面，无需光学曝光过程。
国产设备终突破，国际巨头慌了神，未来芯片谁领跑
2025年8月5日，杭州一家叫璞璘科技的公司把一台新机器交给了国内客户。这台PL-SR型纳米压印光刻机能做出比头发丝还细十万倍的芯片线路，线宽不到10纳米。他们说这是咱们国家自己造的第一台能用在半导体生产的同类机器，打破了日本佳能过去一直垄断的市场。
璞璘科技交付中国首台半导体级步进纳米压印光刻系统
消息称，8月1日，璞璘科技自主设计研发的首台PL-SR系列喷墨步进式纳米压印设备顺利通过验收并交付至国内特色工艺客户。此次设备交付是公司业务拓展和市场渗透的新里程碑，标志着璞璘科技在高端半导体装备制造领域迈出坚实的一步。
美国财长一句话粉碎莫迪大国梦：“印度，你并不是全球重要角色！
8月1日，美国财政部长斯科特·贝森特面对媒体公开宣称：“印度并不是全球重要角色。”这句话如同一把尖刀，刺穿了印度数十年来苦心经营的“有声有色大国”幻梦。就在前一天，特朗普刚签署行政令，宣布对印度商品加征25%关税，并将于8月7日生效。经济大棒与外交羞辱的双重打
璞璘科技交付中国首台半导体级步进纳米压印光刻系统，纳米压印能力对标佳能！
消息称，8月1日，璞璘科技自主设计研发的首台PL-SR系列喷墨步进式纳米压印设备顺利通过验收并交付至国内特色工艺客户。此次设备交付是公司业务拓展和市场渗透的新里程碑，标志着璞璘科技在高端半导体装备制造领域迈出坚实的一步。
打破佳能垄断！中国首台纳米压印光刻系统交付！
2025年8月1日，由璞璘科技自主设计研发的首台PL-SR系列喷墨步进式纳米压印设备顺利通过验收并交付至国内特色工艺客户。
造芯之路 - 世界芯片格局的形成
想象一下，你手中的手机、电脑，甚至家里的智能电器，它们跳动的心脏——芯片，其源头竟是一粒粒普通的沙子（硅）。就是这不起眼的沙子，牵动着大国的博弈...
光刻技术，走下 “神坛”
光刻机，向来被视为半导体制造的命脉。但近期多家芯片巨头释放的信息显示，未来光刻技术可能不再是唯一选择，即便是很难抢到的High-NA EUV，也多处于“闲置”状态。
原子光刻横空出世：精度超EUV15年
原子光刻技术正以颠覆性姿态闯入芯片制造领域。挪威Lace Lithography公司研发的原子束直写技术，分辨率突破0.3纳米，相当于在头发丝截面上雕刻整部《红楼梦》，精度超越当前最先进EUV光刻机15年。这项技术不仅绕开ASML光刻机的物理极限，更将芯片制造
群贤毕至，共襄盛会——IWAPS 2025诚邀投稿！
第九届国际先进光刻技术研讨会（IWAPS）将于10月14-15日在深圳隆重举行！本次研讨会由中国集成电路创新联盟、中国光学学会主办，中国科学院微电子研究所、深圳市半导体与集成电路产业联盟（深芯盟）、南京诚芯集成电路技术研究院有限公司联合承办，诚邀全球业界精英共
颠覆性技术，让芯片制造速度提高15倍
为现代芯片制造商打造强大、可靠且可制造的光源是当今业界最复杂的挑战之一。在所有光刻系统制造商中，只有 ASML 成功研发出用于打印最小芯片特征的 EUV 光源——但一家初创公司却提出了一个颠覆现状的全新理念。
芯片 asml 光刻 semiconductor 粒子加速器 2025-06-11 00:20 11
科创板IPO-恒坤新材经营状况分析
厦门恒坤新材料科技股份有限公司(以下简称“恒坤新材”或公司) 致力于集成电路领域关键材料的研发与产业化应用，是境内少数具备12英寸集成电路晶圆制造关键材料研发和量产能力的创新企业之一，主要从事光刻材料和前驱体材料的研发、生产和销售。
颠覆性技术，让芯片制造速度提高15倍！
为现代芯片制造商打造强大、可靠且可制造的光源是当今业界最复杂的挑战之一。在所有光刻系统制造商中，只有 ASML 成功研发出用于打印最小芯片特征的 EUV 光源——但一家初创公司却提出了一个颠覆现状的全新理念。
芯片 asml 光刻 semiconductor 粒子加速器 2025-06-10 17:48 12
光刻工艺中的显影技术
微流控芯片专家 - 苏州汶颢微流控技术股份有限公司是半导体制造的核心技术，通过光刻胶在特殊波长光线或者电子束下发生化学变化，再经过曝光、显影、刻蚀等工艺过程，将设计在掩膜上的图形转移到衬底上，是现代半导体、微电子、信息产业的基础，直接决定了这些技术的发展水平。
中美一通电话，马克龙改口、印度低头、光刻巨头急了，信号太强！
先是法国总统马克龙，前脚还在新加坡香会上对中国指手画脚，甚至夹带私货暗踩“一个中国”红线。结果呢？一看中美通话谈得欢，特朗普放软身段、中国释放善意（像批准美车企稀土供应、接收波音飞机），马克龙立马坐不住了！法国外长巴罗火急火燎打电话给我外长王毅。为啥这么急？细
俄罗斯总理呼吁提升国产光刻技术竞争力
据telesputnik.ru网6月2日报道，俄罗斯总理米哈伊尔·米舒斯京近日表示，提升国产光刻技术的竞争力应成为俄罗斯的优先任务。他指出，政府需根据企业需求推动设备、材料、化学品及电子设计工具的本土化生产，以减少对进口技术的依赖。
中国突破EUV光刻“光源中的光源”，锡靶技术成胜负手！
在EUV（极紫外）光刻机中，锡靶是产生13.5nm极紫外光的核心材料。当高功率激光轰击液态锡滴时，锡原子电离形成等离子体并辐射EUV光。这一过程需每秒精准击打5万次锡滴，误差小于0.1微米，堪称“用激光击中高速飞行的子弹”。
半导体概念爆火：产业链深度剖析
近年来，半导体行业热度持续攀升，成为全球科技竞争的战略制高点。其产业链涵盖多个精细且关键的环节，每个环节都在技术迭代与产业发展中扮演着独特且重要的角色。