摘要：韩国第二大存储芯片制造商SK海力士宣布，已在利川市的M16工厂正式引进并安装了全球首台量产型高数值孔径极紫外光刻机（High NA EUV），并举行了入厂仪式。这一设备由荷兰ASML研发制造，被视为半导体工艺发展的重要里程碑。

韩国第二大存储芯片制造商SK海力士宣布，已在利川市的M16工厂正式引进并安装了全球首台量产型高数值孔径极紫外光刻机（High NA EUV），并举行了入厂仪式。这一设备由荷兰ASML研发制造，被视为半导体工艺发展的重要里程碑。

High NA EUV相较于现有EUV光刻机，数值孔径从0.33提升至0.55，提升幅度达到40%，能够实现1.7倍的制程分辨率，并将晶体管集成度提高至2.9倍。这一突破意味着更精密的电路图案和更高的芯片密度，为提升存储器性能和能效提供了可能。

SK海力士自2021年在第四代10纳米级（1a）DRAM中首次应用EUV技术以来，持续扩展其在先进DRAM制造中的使用范围。随着AI与高性能计算市场的快速增长，公司认为引进更高水平的光刻技术已势在必行。通过新设备，SK海力士计划简化现有工艺流程，加快下一代DRAM和高附加值存储器的研发，从而在性能和成本上保持竞争优势。

ADML 和SK海力士强调将进一步深化合作，以推动下一代半导体技术的落地。ASML方面表示，High NA EUV将开启半导体产业新篇章，而SK海力士则强调其目标是凭借尖端存储器产品，引领AI和新一代计算市场。

业内人士认为，SK海力士此次引进High NA EUV系统，不仅增强了其在全球存储器市场的技术领导力，也为半导体供应链的稳定性和未来创新奠定了坚实基础。

来源：什么值得买APP