摘要：近日，一家叫深圳市新凯来技术有限公司的企业，突然宣布要在三天后的上海半导体展上第一次公开亮相。这家公司注册资本有15亿元，是深圳国资委旗下的企业，之前几乎没人听说过它的名字。但这次他们要发布的五款设备，名字全是中国名山——峨眉山、武夷山、长白山、普陀山、阿里山

美国对华为刚封杀不久，深圳市政府就悄悄成立了一家400亿的公司。三年后，这家公司的子公司带着五款用黄山命名的芯片设备，准备正面硬刚美国技术封锁。

近日，一家叫深圳市新凯来技术有限公司的企业，突然宣布要在三天后的上海半导体展上第一次公开亮相。这家公司注册资本有15亿元，是深圳国资委旗下的企业，之前几乎没人听说过它的名字。但这次他们要发布的五款设备，名字全是中国名山——峨眉山、武夷山、长白山、普陀山、阿里山，据说都是芯片制造里的关键设备。展会地点在上海新国际博览中心E6馆6301展位，活动包括高峰论坛演讲和全系列产品展示。

事情要从六年前说起。2019年5月15日，美国突然宣布制裁华为，不让华为买美国芯片。结果第二天，深圳市政府就注册了一家叫深圳市重大产业投资集团的公司，注册资本高达400亿元。过了两年，这家集团在2021年8月搞了个全资子公司，就是现在的新凯来，专门做半导体设备。

新凯来虽然年轻，但背景很硬。母公司董事长戴军，同时管着国家大基金二期和中芯国际深圳公司。他们最近公布的数据显示，新凯来已经申请了34项专利，比如去年11月搞出来的静电卡盘专利，能把晶圆温度误差控制在0.5℃以内，比美国同类产品还准。母公司近三年在半导体领域投了200多亿，光是第三代半导体产业园就占了其中一大块。

这次展会最抓眼球的，就是那五款用山命名的设备：

​峨眉山：专门做碳化硅和氮化镓材料的外延设备，能造6500V的高压芯片，这类材料现在电动车和5G基站特别需要。深圳第三代半导体创新中心的中试线已经用上这套设备。

​武夷山：刻蚀机用了自家专利的静电卡盘（专利号CN119069414A），据说良率能提高40%，直接对标美国Lam Research公司的产品。

​长白山：化学气相沉积设备体积比外国货小30%，效率还高了25%，去年12月刚拿到反射结构专利（CN119620268A），能把加热效率提升30%。

​普陀山：物理气相沉积设备定位精度达到±1.3微米，和应用材料公司的最新款差不多水平，适配12英寸晶圆生产线。

​阿里山：原子层沉积设备能在没有荷兰光刻机的情况下做7nm芯片，中芯国际已经测试过了，和华为合作的SAQP技术也在这套设备里用上了。

这些设备名字听着像旅游景点，但技术参数一点不含糊。比如武夷山刻蚀机的静电卡盘专利，解决了晶圆表面电荷堆积的老大难问题，这个技术之前一直被日本和美国公司垄断。

新凯来能这么快出成果，和他们的研发团队分不开。公司300多号员工里，技术骨干平均有18年经验，好些人是从华为和中微半导体跳槽过来的。他们还和清华深圳研究院搞了个联合实验室，最近参与了7项行业标准制定。

去年10月，他们还搞出个带升降结构的工艺处理设备专利，说是能解决多层芯片制造的难题。今年1月又拿到等离子体处理设备的专利，这东西能提高材料表面处理效率，在汽车和医疗设备领域特别有用。目前公司手里攥着200多项专利，光刻蚀和沉积设备就占了127项，还有3项国际专利。

不过也有人担心，新凯来的设备是不是真能完全替代进口货。比如真空泵这种关键零件，国产的寿命只有进口的60%，可能会影响设备稳定性。还有人说，美国应用材料这些大公司和台积电合作了十几年，新凯来想抢市场至少得熬过三五年的验证期。

另外，研发烧钱的问题也摆在面前。去年荷兰ASML一家就砸了32亿欧元搞研发，新凯来全年营收才几个亿，钱不够用可能是大问题。不过深圳国资委倒是舍得花钱，光母公司最近三年就往半导体行业投了200多亿，还拉上中芯国际一起搞生产线验证。

新凯来这波操作，其实暴露了中国半导体的一条新路线——既然最先进的EUV光刻机被卡脖子，那就从刻蚀、沉积这些环节突破。数据显示，2024年中国半导体设备市场规模有342亿美元，但国产化率还不到20%。要是新凯来真能把28nm设备的国产化率做到50%，每年能省下15亿美元进口费用。

中芯国际去年用国产设备把28nm芯片良率提到了98%，和台积电差不多水平。华为能造出麒麟9000S芯片，据说也是因为用了国产沉积和刻蚀设备。现在大湾区已经形成了从材料到制造的完整链条，第三代半导体创新中心这类平台也在加速技术落地。

从2019年制裁华为开始，深圳用六年时间憋出了新凯来这个“大招”。五座“名山”设备能不能打破美国封锁，三天后的上海展会就能见分晓。就像新凯来官网上写的：“专业、创新、开放，集众家之力攻坚克难”——这话听着简单，但背后的分量，半导体行业的人都懂。

来源：落笔有神