摘要：国家知识产权局信息显示，合肥埃科光电科技股份有限公司申请一项名为“叠层介质层数的检测方法、系统、电子设备及介质”的专利，公开号CN120492761A，申请日期为2025年4月。

金融界2025年8月15日消息，国家知识产权局信息显示，合肥埃科光电科技股份有限公司申请一项名为“叠层介质层数的检测方法、系统、电子设备及介质”的专利，公开号CN120492761A，申请日期为2025年4月。

专利摘要显示，本申请公开了一种叠层介质层数的检测方法、系统、电子设备及介质，涉及材料检测领域。该方法包括基于线光谱共聚焦传感器，获取所述叠层介质沿扫描线上各位置的第一高度集合；基于传播介质和叠层介质的折射率，对第一高度集合内的第一测量高度进行补偿，得到第二测量高度；构建相邻位置下第二测量高度之间一一对应的匹配关系；连接具有匹配关系的第二测量高度，得到检测曲线；比较检测曲线在扫描线方向的投影与扫描线的长度，确定叠层介质的层数。本申请通过构建补偿后的第二测量高度的匹配关系，得到多条检测曲线，从而根据检测曲线在扫描线方向的投影与扫描线的长度，确定出叠层介质的层数。

天眼查资料显示，合肥埃科光电科技股份有限公司，成立于2011年，位于合肥市，是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本6800万人民币。通过天眼查大数据分析，合肥埃科光电科技股份有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目25次，财产线索方面有商标信息16条，专利信息299条，此外企业还拥有行政许可13个。

来源：金融界