摘要：2025年8月1日，中国首台半导体级纳米压印光刻机交付，璞璘科技PL-SR设备正式落地。这把纳米印章线宽突破10nm，残余层误差小于2nm，关键指标碾压日本佳能旗舰机。日本佳能垄断的赛道被中国团队用5年硬核突围，杭州璞璘科技这台PLSR设备直接让模板压出10纳

用印章造出首台纳米压印光刻机，日本垄断终结者。

芯片战场突现中国新杀器，中国芯片制造用盖章破局，不用天价光源，不靠精密透镜，像盖章一样印出纳米级芯片。

2025年8月1日，中国首台半导体级纳米压印光刻机交付，璞璘科技PL-SR设备正式落地。这把纳米印章线宽突破10nm，残余层误差小于2nm，关键指标碾压日本佳能旗舰机。日本佳能垄断的赛道被中国团队用5年硬核突围，杭州璞璘科技这台PLSR设备直接让模板压出10纳米电路。

璞璘拥有三大绝技：

·一是喷墨涂胶黑科技，能实时精准调控胶量，省去复杂曝光。

·二是模板面型控制术，攻克石英模板贴合难题，让残胶归零。

·三是柔性适配，能3分钟切换模板柔性适配存储芯片。

无残胶压印使得良品率超国际标准，技术参数更是反超国际竞品。传统EUV光刻机造价12亿，犹如一台电老虎，功耗惊人。而中国纳米压印让成本直降60%，能耗仅有其十分之一。当欧美对华禁运设备，中国却用自主设备反超。

长江存储已启动验证，中国存储芯片自主在望。业内人士称此次突破有望以农村包围城市战略破局。首先就是长江存储急需的3D NAND芯片，它正是压印技术绝杀战场。重复图形一键压印使得成本暴降50%，能耗直砍70%。先用存储芯片利润反哺研发，再以低成本优势蚕食逻辑芯片，最终颠覆EUV霸权。

从AR微显到硅光芯片，从存储突围到反哺逻辑芯片，这就是中国半导体的换道超车。下一步璞璘剑指10nm终极精度，中国芯片的印章将压向全球。没有EUV？那就造一条新路，从印章里压出中国芯的加速度。

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来源：外滩星辰大海