摘要：上海微电子 ：国内光刻机整机龙头，唯一能量产90nm前道光刻机的企业，28nm浸没式光刻机进入验证阶段，承担着国产光刻机技术突破的重要使命。重点有三家关联公司→ →

最核心的10家公司

1. ASML：全球光刻机龙头，占据高端光刻机市场主导地位，尤其在EUV光刻机领域，是目前唯一能量产供应的企业，其产品是先进制程芯片制造的关键设备。

2. 上海微电子 ：国内光刻机整机龙头，唯一能量产90nm前道光刻机的企业，28nm浸没式光刻机进入验证阶段，承担着国产光刻机技术突破的重要使命。重点有三家关联公司→ →

3. 福晶科技 ：全球非线性光学晶体龙头，市占率超60%，产品直供ASML光刻机激光光源系统，也是国产光刻机光源的关键材料供应商。

4. 茂莱光学 ：国内超精密光学元件龙头，产品覆盖DUV/EUV光学模组，为光刻机物镜系统提供核心部件，技术精度达纳米级，部分产品通过ASML认证。

5. 奥普光电 ：背靠中科院长春光机所，承担国家02专项光刻机物镜系统研发任务，纳米级光刻机工作台国内市占率超60%，在光学系统研发方面实力强劲。

6. 波长光电 ：在DUV光刻机投影物镜领域占据龙头地位，自主研发的110nm分辨率物镜已稳定供应上海微电子产线，EUV级物镜进入中试阶段。

7. 雅克科技 ：国产高端光刻胶龙头，产品覆盖ArF、KrF等关键型号，满足先进制程光刻工艺需求，与中芯国际等国内头部晶圆厂深度合作。

8. 赛微电子 ：在光刻机物镜技术领域实现关键突破，其MEMS镜片成功打入ASML供应链，为国产光刻镜头核心供应商之一。

9. 新莱应材 ：高端真空与气体管路系统的领军企业，攻克了光刻机气路污染难题，超高纯气体传输系统进入中芯国际、长江存储等供应链，是光刻机真空腔体与气体传输系统的重要供应商。

10. 张江高科 ：作为上海微电子的重要股东，通过投资平台深度绑定国内光刻机整机龙头，还通过产业基金布局光刻机上下游，为光刻机产业发展提供生态支持。

上下游产业链先进制程相关公司

• 上游：除上述福晶科技、茂莱光学等核心部件公司外，科益虹源是国产193nm ArF激光光源唯一供应商 。清溢光电是掩模版国内龙头，配套光刻工艺，覆盖90nm以下制程 。华卓精科是国内唯一掌握双工作台核心专利的企业，其双工作台技术对标ASML，支撑上海微电子28nm光刻机量产 。

• 下游 ：中芯国际14nm工艺已量产，正努力实现5nm等效量产，与上海微电子联合验证28nm光刻机。华虹半导体专注40nm车规级芯片代工，与光刻机厂商合作开发高精度对准检测模块。长江存储主要从事128层3D NAND闪存量产，推动国产光刻机向高数值孔径方向突破。利和兴等。 ，，。 拓荆科技：

• 主营产品 ：拓荆科技主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售与技术服务。主营产品为半导体薄膜沉积设备和混合键合设备，具体包括PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD等薄膜沉积设备产品系列，以及应用于晶圆级三维集成领域的混合键合设备产品系列。

• 创利润产品 ：目前创利润产品主要为薄膜沉积设备，其中基于新型设备平台（PF-300T Plus和PF-300M）和新型反应腔（pX和Supra-D）的PECVD Stack（ONO叠层）、ACHM及PECVD Bianca等先进工艺设备，陆续通过客户验收，量产规模不断增加，是利润的重要来源，此外ALD设备也持续扩大量产规模，对利润贡献较大。

• 2025年销售主要产品 ：2025年销售的主要产品包括薄膜沉积设备中的新产品和新工艺产品，一季度确认收入的新产品、新工艺占比近70%，如设备平台NF-300M及反应腔Supra-H产品、ALD金属及金属氧化物等产品，还有激光晶圆剥离设备等。

• 未来三年净利润增长率 ：根据同花顺金融服务网数据，机构预测拓荆科技2025-2027年归母净利润分别为9.92亿元、13.82亿元、18.79亿元，若以此计算，2026年较2025年净利润增长率约为39.32%，2027年较2026年净利润增长率约为36.09%。

• 竞争对手 ：拓荆科技在半导体薄膜沉积设备细分市场的竞争对手主要有北方华创等。北方华创是国内较大的半导体设备公司，其在薄膜沉积设备领域也有一定的市场份额和技术实力。此外，国外的Lam Research（泛林集团）、Applied Materials（应用材料公司）等国际半导体设备巨头，在薄膜沉积设备领域技术先进，市场份额广泛，也是拓荆科技面临的强劲竞争对手。

来源：宁波大兵