至讯创新申请芯片工艺角差异消除电路专利,提高 PVT 检测准确性
金融界 2024 年 12 月 25 日消息,国家知识产权局信息显示,至讯创新科技(无锡)有限公司申请一项名为“芯片工艺角差异消除电路、方法及 NAND 闪存芯片”的专利,公开号 CN 119171885 A,申请日期为 2024 年 11 月。
金融界 2024 年 12 月 25 日消息,国家知识产权局信息显示,至讯创新科技(无锡)有限公司申请一项名为“芯片工艺角差异消除电路、方法及 NAND 闪存芯片”的专利,公开号 CN 119171885 A,申请日期为 2024 年 11 月。
P = Pressure,了解熔体在充型过程中的压力变化,如有压力不平均的现象就须进行改善;