大连理工:OVPE外延Ga2O3厚膜及缺陷形成机理研究方向取得新进展 近日,大连理工大学集成电路学院梁红伟教授课题组在OVPE外延Ga2O3厚膜及缺陷形成机理研究方向取得新进展,以OVPE外延方法在(010)面实现10μm以上Ga2O3厚膜,并通过分析Ga2O3外延成核机制构建了位错线形成的三维模型,解释了具有角度和指向性位错线 厚膜 ga2o3 ga2o3厚膜 ovpe外延 ovpe 2025-04-17 09:05 2