格力申请一种CVD反应腔体的清洁方法专利,能够高效地清洁CVD反应腔体内的沉膜 国家知识产权局信息显示,珠海格力电子元器件有限公司、珠海格力电器股份有限公司申请一项名为“一种CVD反应腔体的清洁方法”的专利,公开号CN 119776798 A,申请日期为2024年12月。 专利 格力 cvd 腔体 清洁cvd 2025-04-09 12:03 4